[发明专利]用于电解蚀刻铜的蚀刻设备有效
申请号: | 201180075364.0 | 申请日: | 2011-10-08 |
公开(公告)号: | CN103975096A | 公开(公告)日: | 2014-08-06 |
发明(设计)人: | 克里斯托夫·赫克里 | 申请(专利权)人: | 克里斯托夫·赫克里 |
主分类号: | C25F7/02 | 分类号: | C25F7/02;C23F1/46 |
代理公司: | 北京市立方律师事务所 11330 | 代理人: | 刘莉婕 |
地址: | 德国施瓦*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 电解 蚀刻 设备 | ||
1.一种用于在蚀刻材料上电解蚀刻铜的蚀刻设备,包括:
-第一混合设备,其被设置成接收包含铜离子的酸性电解质和氧气或臭氧气体,以便形成第一液体/气体混合物,所述第一液体/气体混合物能够被传输离开所述第一混合设备的第一出口进入与其耦合的连接线路,
-容器,其容纳容器液体,
-第二混合设备,其被布置在所述容器内并且被所述容器液体环绕,所述第二混合设备具有抽吸孔口以便抽吸存在于所述抽吸孔口的区域中的所述容器液体,并且所述第二混合设备被连接至所述连接线路并被设置成将所述第一液体/气体混合物和所抽吸的所述容器液体传输至所述第二混合设备的收缩区中,使得所抽吸的所述容器液体能够与所述第一液体/气体混合物混合并由此形成第二液体/气体混合物,并且所述第二混合设备具有第二出口,所述第二液体/气体混合物能够通过所述第二出口流出并与存在于所述第二出口的区域中的所述容器液体混合,以及
-容器出口线路,其被设置成将其中存在的所述容器液体供应至设置在蚀刻模块中的所述蚀刻材料。
2.如权利要求1中所述的蚀刻设备,其中所述第一混合设备是文丘里喷嘴或液体喷射气体压缩机。
3.如权利要求1和2中任一项所述的蚀刻设备,其中所述第二混合设备被布置在所述容器的下半部并且所述容器出口线路被布置在所述第二混合设备之上。
4.如前述权利要求中任一项所述的蚀刻设备,其中在所述容器出口线路与所述第二混合设备之间存在至少一米的距离。
5.如前述权利要求中任一项所述的蚀刻设备,其中所述容器具有至少1.5米的高度以及至少400升容器液体的体积。
6.如前述权利要求中任一项所述的蚀刻设备,其中所述第一混合设备能够容纳至少100升每分钟的酸性电解质和至少50升每分钟的氧气或臭氧气体。
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