[发明专利]光学装置、图像显示装置、驱动装置以及驱动方法无效

专利信息
申请号: 201180075376.3 申请日: 2011-12-07
公开(公告)号: CN103988117A 公开(公告)日: 2014-08-13
发明(设计)人: 柏木正子;上原伸一;高木亚矢子 申请(专利权)人: 株式会社东芝
主分类号: G02F1/13 分类号: G02F1/13;G02B27/22;G02F1/1343;G02F1/1347
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 陈华成
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 光学 装置 图像 显示装置 驱动 以及 方法
【权利要求书】:

1.一种光学装置,其特征在于,具备:

光学元件,具有折射率分布根据所施加的电压而变化的折射率调制层、和能够对所述折射率调制层施加电压的多个电极;以及

电压控制部,在对所述电极施加的电压的状态是第1电压状态的情况下,控制对各所述电极施加的电压,以使所述折射率调制层的折射率具有梯度的第1折射率分布至少在所述光学元件的一部分中周期性地排列,在与所述第1电压状态不同的第2电压状态的情况下,控制对各所述电极施加的电压,以得到第2折射率分布,当在从所述第1电压状态切换为所述第2电压状态时设定的中间电压状态的情况下,将对在所述第1电压状态下被施加最大的第1电压的第1电极施加的电压控制为比所述第1电压小的第2电压。

2.根据权利要求1所述的光学装置,其特征在于,

所述电压控制部在所述中间电压状态的情况下,将对与所述第1电极邻接的第2电极施加的电压控制为与所述第2电压不同的第3电压。

3.根据权利要求2所述的光学装置,其特征在于,

所述第3电压小于所述第2电压。

4.根据权利要求2所述的光学装置,其特征在于,

所述第3电压大于所述第2电压。

5.根据权利要求2所述的光学装置,其特征在于,

在所述第1电压状态下对所述第1电极施加的所述第1电压、与在所述第1电压状态下对所述第2电极施加的第4电压的差分的绝对值小于所述第4电压的情况下,所述电压控制部将所述第3电压控制为比所述第4电压小的值。

6.根据权利要求2所述的光学装置,其特征在于,

在所述第1电压状态下对所述第1电极施加的所述第1电压、与在所述第1电压状态下对所述第2电极施加的第4电压的差分的绝对值大于所述第4电压的情况下,所述电压控制部将所述第3电压控制为比所述第4电压大的值。

7.根据权利要求2所述的光学装置,其特征在于,

所述电压控制部进行控制,以使所述第1电压与所述第2电压的差分的绝对值大于所述第3电压与在所述第1电压状态下对所述第2电极施加的第4电压的差分的绝对值。

8.根据权利要求1所述的光学装置,其特征在于,

所述电压控制部在所述中间电压状态的情况下,控制对各所述电极施加的电压,以使所述第1电压状态下的电压图案的相位偏移预定的值。

9.根据权利要求1所述的光学装置,其特征在于,

所述光学元件还具备相互对置并且夹持所述折射率调制层的第1基板以及第2基板,

在所述第1基板中的所述折射率调制层侧的表面上形成多个所述电极,另一方面,在所述第2基板中的所述折射率调制层侧的表面上,形成与在所述第1基板上形成的多个所述电极分别对置的对置电极,

在所述第1电压状态的情况下,所述电压控制部将对所述对置电极施加的电压控制为相同的值,并且使对在所述第1基板上形成的多个所述电极分别施加的电压周期性地变化,

在所述中间电压状态的情况下,所述电压控制部将对所述对置电极施加的电压控制为比在所述第1电压状态下对所述对置电极施加的电压大并且比所述第1电压小的值。

10.根据权利要求1所述的光学装置,其特征在于,

所述光学元件还具备相互对置并且夹持所述折射率调制层的第1基板以及第2基板,

在所述第1基板中的所述折射率调制层侧的表面上,形成在第1方向上延伸的多个所述电极,另一方面,在所述第2基板中的所述折射率调制层侧的表面上,形成在与所述第1方向不同的方向的第2方向上延伸的多个所述电极,

在所述第1电压状态的情况下,所述电压控制部将对在所述第2基板上形成了的多个所述电极分别施加的电压控制为相同的值,并且使对在所述第1基板上形成了的多个所述电极分别施加的电压周期性地变化,

在所述第2电压状态的情况下,所述电压控制部将对在所述第1基板上形成了的多个所述电极分别施加的电压控制为相同的值,并且使对在所述第2基板上形成了的多个所述电极分别施加的电压周期性地变化。

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