[发明专利]喷嘴芯片的制造方法有效
申请号: | 201180075533.0 | 申请日: | 2011-12-13 |
公开(公告)号: | CN103998245A | 公开(公告)日: | 2014-08-20 |
发明(设计)人: | 真锅贵信;黑须敏明;渡边诚;藤井谦儿;田川义则;浅井和宏 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | B41J2/135 | 分类号: | B41J2/135 |
代理公司: | 北京魏启学律师事务所 11398 | 代理人: | 魏启学 |
地址: | 日本东京都大*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 喷嘴 芯片 制造 方法 | ||
1.一种喷嘴芯片的制造方法,所述制造方法包括通过使用具有在通过连接部将喷出口列图案彼此相连接的情况下形成一个喷嘴芯片的喷出口列图案的图案的掩模进行光线照射来形成喷出口列的步骤,
其中,所述掩模被配置为使得对于所述喷出口列的喷出口的配置方向、照射与所述连接部的距离最近的喷出口的光线的轴外远心度的绝对值小于照射与所述连接部的距离最远的喷出口的光线的轴外远心度的绝对值。
2.根据权利要求1所述的喷嘴芯片的制造方法,其中,所述掩模的喷出口列图案是如下的喷出口列图案,该喷出口列图案被配置为使得对于所述喷出口列的喷出口的配置方向、从照射所述掩模的光束的中心到与所述连接部的距离最近的喷出口的距离小于从所述光束的中心到与所述连接部的距离最远的喷出口的距离。
3.根据权利要求1或2所述的喷嘴芯片的制造方法,其中,通过使用缩小投影光学系统来进行所述光线照射。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佳能株式会社,未经佳能株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201180075533.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种开关电源电路及开关电源
- 下一篇:一种反激电源电路