[其他]电铬玻璃有效
申请号: | 201190000347.6 | 申请日: | 2011-02-17 |
公开(公告)号: | CN203311141U | 公开(公告)日: | 2013-11-27 |
发明(设计)人: | L-Y.叶;P.勒托卡特;B.罗耶;N.胡恩 | 申请(专利权)人: | 法国圣戈班玻璃厂 |
主分类号: | G02F1/155 | 分类号: | G02F1/155 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 陈浩然;严志军 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 玻璃 | ||
1.一种电铬玻璃(1),其带有至少一个基底(2)和施加到所述基底(2)上的层结构(5),其中,所述层结构(5)具有至少两个电极层(7, 11),在它们之间存在第一电化学主动层(10)和第二电化学主动层(8),其相应适合用于离子的可逆结合,其中,所述第一电化学主动层(10)由电铬材料构成,并且其中,这两个主动层(8, 10)通过电解层(9)相互分离,
其特征在于,所述层结构(5)通过一个或多个过渡区(13)划分成串联的电铬单元(12),其中,每个过渡区(13)包括:
- 第一沟槽(14),通过其将所述两个电极层中的第一电极层(7)划分成彼此电绝缘的第一电极区段(17);
- 第二沟槽(15),通过其将所述两个电极层中的第二电极层(11)划分成彼此电绝缘的第二电极区段(18);
- 利用导电的材料填充的第三沟槽(16),通过其将邻接到所述过渡区(13)处的所述单元(12)的第一电极区段(17)和第二电极区段(18)相互电连接;
其中,所述第三沟槽(16)布置在所述第一沟槽(14)与所述第二沟槽(15)之间。
2.根据权利要求1所述的电铬玻璃(1),其特征在于,所述第二电极层(11)布置在所述第一电极层(7)之上,其中,每个过渡区(13)的第三沟槽(16)通过所述第二电极层(11)的导电的材料来填充。
3.根据权利要求1至2中任一项所述的电铬玻璃(1),其特征在于,每个过渡区(13)的第一沟槽(14)通过这两个主动层(8, 10)的一个的或所述电解层(9)的材料来填充。
4.根据权利要求3所述的电铬玻璃(1),其特征在于,每个过渡区(13)的第一沟槽(14)通过布置在相应另一主动层(8)之上的主动层(10)的材料来填充。
5.根据权利要求2或4所述的电铬玻璃(1),其特征在于,每个过渡区(13)的第二沟槽(15)划分所述层结构(5)直至所述第一电极区段(17)。
6.根据权利要求2或4所述的电铬玻璃(1),其特征在于,所述层结构(5)包括布置在所述第二电极层(11)之上的、由电绝缘的材料构成的覆层,其中,每个过渡区(13)的第二沟槽(15)由所述覆层的绝缘材料来填充。
7.根据权利要求1或2所述的电铬玻璃(1),其特征在于,每个单元(12)设有用于限制电压的装置。
8.根据权利要求7所述的电铬玻璃(1),其特征在于,用于限制电压的所述装置能够以带有预定的击穿电压的反并联的二极管(21)的形式来构造。
9.根据权利要求1或2所述的电铬玻璃(1),其特征在于,每个过渡区(13)具有在100μm至500μm的范围中的最大宽度。
10.根据权利要求9所述的电铬玻璃(1),其特征在于,每个过渡区(13)具有在150μm至250μm范围中的最大宽度。
11.根据权利要求9所述的电铬玻璃(1),其特征在于,同一过渡区(13)的相邻的沟槽(14-16)之间的间距为至少50μm。
12.根据权利要求9所述的电铬玻璃(1),其特征在于,相应的沟槽(14-16)的宽度处于30μm至100μm的范围中。
13.根据权利要求1或2所述的电铬玻璃(1),其特征在于,所述基底(5)在背对所述层结构(5)的侧面(25)上设有一个或多个不透明的覆盖元件(24),其相应关联于过渡区(13)且完全遮盖所述过渡区。
14.根据权利要求1或2所述的电铬玻璃(1),其特征在于,所述层结构(5)布置在第一基底(2)与第二基底之间。
15.根据权利要求1或2所述的电铬玻璃(1),其特征在于,所述层结构(5)通过一个或多个第四沟槽(26)划分成多个彼此电绝缘的单元区域(27, 28),其相应包含多个串联的电铬单元(12),其中,所述单元区域(12)并联。
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