[发明专利]一种用于离轴R-C系统光谱反射率的测量方法无效
申请号: | 201210001084.1 | 申请日: | 2012-01-04 |
公开(公告)号: | CN102539120A | 公开(公告)日: | 2012-07-04 |
发明(设计)人: | 张颖;赵慧洁;邹百英 | 申请(专利权)人: | 北京航空航天大学 |
主分类号: | G01M11/02 | 分类号: | G01M11/02 |
代理公司: | 北京慧泉知识产权代理有限公司 11232 | 代理人: | 王顺荣;唐爱华 |
地址: | 100191*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 系统 光谱 反射率 测量方法 | ||
1.一种用于离轴R-C系统光谱反射率的测量方法,该方法是基于一种测量光学系统实现的,该测量光学系统包括氙灯(1)、可调光阑(2)、透镜(3)、被测离轴R-C系统、辅助平面镜(6)、积分球(7)、光谱仪(8)及计算机(9),其中所述的被测离轴R-C系统由次镜(4)和主镜(5)组成,该方法包括如下步骤:
步骤1、通过调整测量光学系统中的各光学器件的位置构成第一测量光路:将氙灯(1)和可调光阑(2)构成的点光源置于透镜(3)的物方二倍焦距处,点光源经过透镜(3)形成的像点落在被测离轴R-C系统的物方焦平面上,使得经过离轴R-C系统后的出射光线变为平行光;辅助平面镜(6)置于离轴R-C系统主镜(5)正前方并与光轴垂直,将离轴R-C系统出射的平行光沿着与光轴对称的方向全部反射回到离轴R-C系统,反射回的平行光经离轴R-C系统后会聚到该系统的焦平面上使得点光源二次成像,点光源二次成像的位置与一次成像的位置成光轴对称;积分球(7)的收光口置于点光源的二次成像位置,使得会聚光束全部进入积分球(7),此时通过计算机(9)控制光谱仪(8)探测到积分球(7)出口处的光谱辐照度为E1(λ);
步骤2、通过调整测量光学系统中的各光学器件的位置构成第二测量光路:将氙灯(1)和可调光阑(2)构成的点光源仍置于透镜(3)的物方二倍焦距处,辅助平面镜(6)置于透镜(3)像方二倍焦距以内,积分球(7)的收光口置于点光源的一次成像位置,使得通过透镜(3)的会聚光束全部进入积分球(7),此时通过计算机(9)控制光谱仪(8)探测到积分球(7)出口处的光谱辐照度为E2(λ);
步骤3、得到由次镜(4)和主镜(5)构成的被测离轴R-C系统的光谱反射率:
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