[发明专利]线宽间距交变结构型平面螺旋电感

权利要求书

1.一种线宽间距交变结构型平面螺旋电感，包括硅衬底、绝缘层、平面螺旋电感底层金属层、通孔、平面螺旋电感金属层；所述的硅衬底上生长有螺旋电感的绝缘层，绝缘层上镀金属薄膜刻蚀电感底层金属层，底层金属层上沉积绝缘层，绝缘层刻蚀通孔，连接底层金属层和螺旋电感层，绝缘层上镀金属薄膜刻蚀螺旋电感金属层，螺旋电感金属层线圈为多匝，线圈图案由导电金属构成；其特征在于，所述平面螺旋电感金属层的金属线宽自外圈向内圈宽窄交替变化，金属线间距自外圈向内圈宽窄交替变化。

2.根据权利要求1所述的线宽间距交变结构型平面螺旋电感，其特征在于，所述平面螺旋电感金属层的金属线宽自外圈向内圈宽窄交替变化是指，金属导线(1)、(5)、(9)、(12)、(13)宽度是所有金属导线中宽度最宽的；金属导线(2)、(6)、(10)、(14)宽度较金属导线(1)、(5)、(9)、(12)、(13)变窄；金属导线(3)、(7)、(11)、(15)宽度较金属导线(2)、(6)、(10)、(14)宽度变宽，其宽度窄于金属导线(1)、(5)、(9)、(12)、(13)；金属导体(4)、(8)宽度变窄，其宽度窄于金属导线(2)、(6)、(10)、(14)的宽度。

3.根据权利要求1所述的线宽间距交变结构型平面螺旋电感，其特征在于，所述平面螺旋电感金属层的金属线间距自外圈向内圈宽窄交替变化是指，金属导线(1)、(5)、(9)、(13)与金属导线(2)、(6)、(10)、(14)之间的间距是导线间距中最大的；金属导线(2)、(6)、(10)、(14)与金属导线(3)、(7)、(11)、(15)之间的间距小于金属导线(1)、(5)、(9)、(13)与金属导线(2)、(6)、(10)、(14)之间的间距；金属导线(3)、(7)与金属导线(4)、(8)之间的间距大于金属导线(2)、(6)与金属导体(3)、(7)之间的间距。

4.根据权利要求1所述的线宽间距交变结构型平面螺旋电感，其特征在于，所述的金属导线宽度的范围值为0.03微米～20微米。

5.根据权利要求1所述的线宽间距交变结构型平面螺旋电感，其特征在于，所述的金属导线之间的间距值的范围为0.04微米～10微米。

6.根据权利要求1所述的线宽间距交变结构型平面螺旋电感，其特征在于，所述平面螺旋电感外径的范围为0.1微米～400微米。