[发明专利]一种原子层沉积设备有效
申请号: | 201210001945.6 | 申请日: | 2012-01-05 |
公开(公告)号: | CN103194733A | 公开(公告)日: | 2013-07-10 |
发明(设计)人: | 张艳清;夏洋;李超波;万军;吕树玲;陈波;石莎莉;李楠 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/52 |
代理公司: | 北京市德权律师事务所 11302 | 代理人: | 刘丽君 |
地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 原子 沉积 设备 | ||
1.一种原子层沉积设备,其特征在于:包括主控部件、电气控制部件、真空部件、加热部件和气路部件,所述主控部件分别与所述电气控制部件、所述真空部件、所述加热部件和所述气路部件连接,所述电气控制部件分别与所述真空部件、所述加热部件和所述气路部件连接,所述主控部件为集显示与控制于一体的控制设备。
2.如权利要求1所述的原子层沉积设备,其特征在于:所述主控部件包括显示器和设置在所述显示器内部的控制器和内置I/O,所述控制器和所述内置I/O通过内部总线相连,所述内置I/O包括模拟量输入模块、模拟量输出模块、数字量输出模块,所述模拟量输入模块、模拟量输出模块和数字量输出模块之间通过内部总线相连。
3.如权利要求2所述的原子层沉积设备,其特征在于:所述电气控制部件包括断路器、保险丝、微型接触器、继电器和电源,所述电源分别与所述断路器、所述微型接触器和所述继电器相连,所述保险丝与所述断路器相连。
4.如权利要求3所述的原子层沉积设备,其特征在于:所述主控部件的内置I/O分别与所述电气控制部件的微型接触器和继电器相连。
5.如权利要求2所述的原子层沉积设备,其特征在于:所述真空部件中的真空计通过RS232串口与所述主控部件的控制器连接。
6.如权利要求3所述的原子层沉积设备,其特征在于:所述加热部件中的被加热源的供电电源直接与所述电气部件的继电器相连,所述主控部件的数字量输出模块控制所述继电器来控制所述被加热源的温度。
7.如权利要求2所述的原子层沉积设备,其特征在于:所述气路部件中的质量流量计由所述主控部件的模拟量输出模块控制。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的