[发明专利]电浆反应方法及装置

权利要求书

1.一种电浆反应方法，其特征在于，在密闭空间内，装设该至少一组导电回圈，并在该密闭空间内充填反应流体，借由对该至少一组导电回圈施加电场或/及磁场，使该密闭空间内的导电回圈与反应流体互相作用而在该密闭空间内产生电浆反应。

2.根据权利要求1所述的电浆反应方法，其特征在于，所述导电回圈具有单组。

3.根据权利要求1所述的电浆反应方法，其特征在于，所述导电回圈具有数组。

4.根据权利要求3所述的电浆反应方法，其特征在于，所述数组导电回圈进一步彼此对应设置。

5.根据权利要求1、2、3或4所述的电浆反应方法，其特征在于，所述导电回圈或数组导电回圈之中的至少一组导电回圈，具有至少一支端子自密闭空间内向外穿出。

6.根据权利要求1、2、3或4所述的电浆反应方法，其特征在于，所述导电回圈或数组导电回圈之中的至少一组导电回圈，具有至少一支端子被完全封闭在密闭空间内，并且不与密闭空间外接触。

7.一种电浆反应装置，其特征在于，包括：

密闭空间；

至少一组导电回圈，装设于上述密闭空间内，并在该密闭空间内充填反应流体，借由对该至少一组导电回圈施加电场或/及磁场，使该密闭空间内的导电回圈与反应流体互相作用而在该密闭空间内产生电浆反应。

8.根据权利要求7所述的电浆反应装置，其特征在于，所述导电回圈具有单组。

9.根据权利要求7所述的电浆反应装置，其特征在于，所述导电回圈具有数组。

10.根据权利要求9所述的电浆反应装置，其特征在于，所述数组导电回圈进一步彼此对应设置。

11.根据权利要求7、8、9或10所述的电浆反应装置，其特征在于，所述导电回圈或数组导电回圈之中的至少一组导电回圈，各自具有至少一支端子自密闭空间内向外穿出。

12.根据权利要求7、8、9或10所述的电浆反应装置，其特征在于，所述导电回圈或数组导电回圈之中的至少一组导电回圈，具有至少一支端子被完全封闭在密闭空间内，并且不与密闭空间外接触。