[发明专利]镀膜件及其制备方法

权利要求书

1.一种镀膜件，包括金属基体及形成于该金属基体表面的耐磨层，其特征在于：该耐磨层是分散有聚四氟乙烯颗粒及碳化钨颗粒的非晶态磷-镍合金层。

2.如权利要求1所述的镀膜件，其特征在于：所述聚四氟乙烯颗粒的粒径为30nm-100nm。

3.如权利要求1所述的镀膜件，其特征在于：该耐磨层中聚四氟乙烯颗粒的质量百分含量为6%-20%。

4.如权利要求1所述的镀膜件，其特征在于：所述碳化钨颗粒的粒径为50nm-100nm。

5.如权利要求1所述的镀膜件，其特征在于：该耐磨层中碳化钨颗粒的质量百分含量为3%-10%。

6.如权利要求1所述的镀膜件，其特征在于：该金属基体为铁基合金。

7.如权利要求1所述的镀膜件，其特征在于：该金属基体为铝合金、镁合金及钛合金中的一种。

8.一种镀膜件的制备方法，包括在金属基材上化学镀一耐磨层，化学镀该耐磨层的镀液为含以下组分的水溶液：NiSO₄·6H₂O，20g/L-25g/L；NaH₂PO₂·H₂O，20g/L-25g/L；聚四氟乙烯颗粒，4g/L-8g/L；碳化钨颗粒，1g/L-3g/L；醋酸钠，10g/L-15g/L；柠檬酸，10g/L-15g/L；乳酸，15g/L-20g/L；氟碳型阳离子表面活性剂，0.05g/L-0.3g/L；氟化钠，0.05g/L-0.3g/L；该镀液的pH值范围为4.0-5.0，温度为88℃-92℃。

9.如权利要求8所述的镀膜件的制备方法，其特征在于：所述聚四氟乙烯颗粒的粒径为30nm-100nm。

10.如权利要求8所述的镀膜件的制备方法，其特征在于：所述碳化钨颗粒的粒径为50nm-100nm。