[发明专利]抗蚀剂组合物、抗蚀剂图案形成方法

权利要求书

1.一种抗蚀剂组合物，其特征在于，含有：

在酸的作用下对显影液的溶解性发生变化、可用于以193nm以下的波长区域的光为曝光光源的光刻的基材成分(A)、

通过曝光而产生酸的产酸剂成分(B)、和

具有下述通式(c0)所示的结构单元(c0)的高分子化合物(C)；

相对于该基材成分(A)100质量份，所述高分子化合物(C)的含有比例小于25质量份，

[化1]

式中，R表示氢原子、碳原子数1～5的烷基或碳原子数1～5的卤代烷基；R¹为具有1个以上的伯醇性羟基或仲醇性羟基、或者链状的叔醇性羟基的有机基团。

2.如权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其中，

所述高分子化合物(C)还具有结构单元(c1)，所述结构单元(c1)为由α位碳原子上键合的氢原子可被取代基取代的丙烯酸酯衍生而来的结构单元，且包含在酸的作用下极性增大的酸分解性基团。

3.如权利要求2所述的抗蚀剂组合物，其中，

相对于构成所述高分子化合物(C)的全部结构单元，所述结构单元(c0)的比例为45～95摩尔％。

4.如权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其中，

所述高分子化合物(C)的重均分子量为1万～50万。

5.如权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其中，

所述基材成分(A)为在酸的作用下极性增大的树脂成分(A1)。

6.如权利要求5所述的抗蚀剂组合物，其中，

所述树脂成分(A1)具有结构单元(a1)，所述结构单元(a1)为由α位碳原子上键合的氢原子可被取代基取代的丙烯酸酯衍生而来的结构单元，且包含在酸的作用下极性增大的酸分解性基团。

7.如权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其中，

还含有含氮有机化合物成分(D)。

8.一种抗蚀剂图案形成方法，其中，包括：

使用权利要求1～7中任一项所述的抗蚀剂组合物在支撑体上形成抗蚀剂膜的工序、

对所述抗蚀剂膜进行曝光的工序、和

使所述抗蚀剂膜显影而形成抗蚀剂图案的工序。