[发明专利]用于光刻系统的光能量监测系统无效

专利信息
申请号: 201210009225.4 申请日: 2012-01-12
公开(公告)号: CN102566310A 公开(公告)日: 2012-07-11
发明(设计)人: 何少锋 申请(专利权)人: 合肥芯硕半导体有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G01J1/00
代理公司: 合肥金安专利事务所 34114 代理人: 王挺
地址: 230601 安徽省*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 用于 光刻 系统 能量 监测
【权利要求书】:

1.一种用于光刻系统的光能量监测系统,其特征在于:本系统包括光源、光传输组件、投影曝光组件;所述光源与光传输组件之间的光路和/或光传输组件与投影曝光组件之间的光路上设置有监测光强的第一感光探头,所述投影曝光组件的出射端设置有监测光强的第二感光探头;所述第一感光探头和第二感光探头的信号输出端均与计算机相连。

2.根据权利要求1所述的用于光刻系统的光能量监测系统,其特征在于:所述第一感光探头通过第一感光探头控制器与计算机相连,第二感光探头通过第二感光探头控制器与计算机相连。

3.根据权利要求1所述的用于光刻系统的光能量监测系统,其特征在于:所述光传输组件包括沿光的传输方向依次设置的第一透镜或透镜组、分束器、第二透镜或透镜组;所述投影曝光组件包括沿光的投影方向依次设置的图形发生器和第三透镜或透镜组;光源发出的光依次经过第一透镜或透镜组、分束器、第二透镜或透镜组而投射至图形发生器处,光经由图形发生器反射后经过第三透镜或透镜组而出射至第二感光探头处;所述第一感光探头设置在分束器的旁侧,且第一感光探头用于监测分束器所分出光束的光强。

4.根据权利要求3所述的用于光刻系统的光能量监测系统,其特征在于:本系统还包括载物平台,且所述第二感光探头设置在载物平台上。

5.根据权利要求4所述的用于光刻系统的光能量监测系统,其特征在于:所述第二感光探头的位置或者载物平台在平台移动控制器的控制下移动使得自第三透镜或透镜组出射的光全部进入第二感光探头,所述光源和平台移动控制器均与计算机相连。

6.根据权利要求1~5任一项所述的用于光刻系统的光能量监测系统,其特征在于:光刻系统初始工作时第一感光探头所探测到的光强与第二感光探头所探测到的光强之间的比值即为初始光强比值,光刻系统继续工作时第一感光探头所探测到的光强与第二感光探头所探测到的光强之间的比值即为工作光强比值;所述计算机判断并保存初始光强比值;并在光刻系统继续工作时按照设定时间间隔定时比较初始光强比值和工作光强比值,当工作光强比值大于初始光强比值时,计算机通过光源控制器控制光源所发出光束的强度,以使第二感光探头所探测到的光强保持恒定。

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