[发明专利]镁镍氧基多波段日盲区紫外探测器及其制备方法有效
申请号: | 201210009896.0 | 申请日: | 2012-01-13 |
公开(公告)号: | CN102522448A | 公开(公告)日: | 2012-06-27 |
发明(设计)人: | 朱丽萍;郭艳敏;杨治国;叶志镇 | 申请(专利权)人: | 浙江大学 |
主分类号: | H01L31/108 | 分类号: | H01L31/108;H01L31/0224;H01L31/18 |
代理公司: | 浙江杭州金通专利事务所有限公司 33100 | 代理人: | 刘晓春 |
地址: | 310027*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 镁镍氧 基多 波段 盲区 紫外 探测器 及其 制备 方法 | ||
技术领域
本发明属于光电技术领域,具体涉及镁镍氧基多波段日盲区紫外探测器及其制备方法。
背景技术
随着紫外探测技术的发展,价格便宜、性能稳定可靠的紫外探测器件逐渐成为研究的热点之一,尤其是工作于地球表面日盲区(波长为240-280nm)范围内的紫外光探测器。日盲区紫外探测器可应用于导弹尾焰探测、化学火焰探测以及短波长光通讯等军事、民用领域。目前,常见的紫外探测器有AlGaN体系和MgZnO体系,但AlGaN体系制备工艺复杂,成本较高,缺少晶格匹配的衬底,使薄膜中存在大量缺陷;由于Al原子和Ga原子的迁移率不同,随Al组分增加,使得组分不均一,这些因素严重制约着AlGaN体系器件性能。MgZnO体系虽然在一定程度上调节了其禁带宽度,但是由于ZnO与MgO晶体结构上的差异,两者的固溶度有限,薄膜禁带宽度只能在一定范围内调节,其光谱响应仍不能被调节到日盲光谱范围内。对于MgxNi1-xO合金,当x取值在0.2~0.3之间时,合金薄膜的吸收截止波长为276nm~253nm, 刚好处于日盲区范围(240nm~280nm),非常适合用于日盲区紫外探测器。
目前,MgxNi1-xO基紫外探测器的相关研究还处于起步阶段:Z.G. Ji等(Z.G. Ji, Z. P. He, Synthesis of MgxNi1-xO thin films with a band-gap in the solar-blind region, Journal of Crystal Growth,2005(2733): 446-450)用溶胶-凝胶法在石英衬底上制备了MgxNi1-xO薄膜并经过高温退火处理后初步实现薄膜禁带宽度的调节,但薄膜的结晶质量较差,有较高的晶界密度和晶内缺陷及无定形相,在禁带中引入深能级作为载流子的陷阱或复合中心,严重限制其紫外响应特性;Y. M. Zhao等(Y. M. Zhao, J.Y. Zhang et al, MgxNi1-xO-based metal-semiconductor-metal ultraviolet photodetector J. Phys. D: Appl. Phys, 2009(42): 092007)用电子束蒸发技术在石英衬底上制备了MgxNi1-xO薄膜,由于Mg原子迁移率低导致薄膜产生微区不均匀,很难得到组分均匀的固溶体,薄膜禁带宽度未能达到预期调制结果,其光响应截止波长未能进入日盲区;中国专利CN102157598报道了基于镁镍氧化物薄膜的太阳盲探测器及其制备方法,但是由于是单层MgxNi1-xO薄膜构成的金属-半导体-金属型(MSM)型紫外探测器,该探测器只能探测日盲区中单波段紫外线。至今为止,基于镁镍氧基的日盲区紫外探测器只是用于单波段探测,未见可调节的多波段日盲区紫外探测器。
发明内容
本发明的目的是克服现有技术的不足,设计一种可调节的镁镍氧基多波段日盲区紫外探测器,该多波段探测器体积小、工作电压低、灵敏度高、可用于多波段日盲区紫外探测。
本发明采用的技术方案如下:
一种镁镍氧基多波段日盲区紫外探测器,其特征在于:包括沿垂直方向依次设置的衬底,底层NiO薄膜,多层镁镍氧薄膜,帽层NiO薄膜,所述探测器还设有第一金属电极和第二金属电极,第一金属电极设置在底层NiO薄膜上,第二金属电极设置在帽层NiO薄膜上。
其中,所述的多层镁镍氧薄膜(3)由沿垂直方向对称分布的Mgx1Ni1-x1O、Mgx2Ni1-x2O、Mgx3Ni1-x3O……MgxmNi1-xmO、MgO、MgxmNi1-xmO……Mgx3Ni1-x3O 、Mgx2Ni1-x2O、Mgx1Ni1-x1O薄膜构成,其中,0<x1<x2<x3<……<xm<1,MgO薄膜为中间层,多层镁镍氧薄膜中的其余薄膜相对于中间层沿垂直方向对称分布;
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H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的