[发明专利]光刻装置及器件制造方法

权利要求书

1.一种光刻设备，布置成将图案从构图部件投影到基底上，光刻设备包括配置成通过调节流体而调节物体的温度的调节系统，所述物体是基底台、掩模台或用于基底台的承载，其中调节系统包括压力阻尼器，所述压力阻尼器与调节系统流体连通并且布置成抑制调节系统内由于物体的加速引起的物体外侧的调节流体压力变化。

2.如权利要求1所述的设备，其中所述物体内设置有一个或多个调节通道用以通过其中输送调节流体。

3.如权利要求1或2所述的设备，其中调节系统包括调节流体供给装置，配置成输送调节流体至所述物体。

4.如权利要求1或2或3所述的设备，其中调节系统包括调节流体去除装置，配置成输送调节流体离开所述物体。

5.如权利要求1-4中任一项所述的设备，其中调节系统还包括用于从所述物体外部增加调节流体至所述物体的通道，和用于从所述物体移除调节流体至物体外部的通道。

6.如权利要求1-5中任一项所述的设备，其中压力阻尼器包括具有通过活动元件分开的两个隔室的壳体，其中一个隔室连接至调节系统。

7.如权利要求1-5中任一项所述的设备，其中压力阻尼器包括在一侧与调节系统流体连通的活动元件，和连接至活动元件并且在使用时用于提供恒定的力至活动元件的致动器。

8.如权利要求1-5中任一项所述的设备，其中调节系统配置成使得调节流体至少部分地在所述基底台周围的回路中循环而不会离开所述物体。

9.如权利要求1-8中任一项所述的设备，还包括至少一个限流器，所述限流器处于所述调节系统中的调节流体的流路中。

10.如权利要求9所述的设备，其中所述限流器处于所述物体内的所述流路的一部分中。