[发明专利]记录介质和再生设备无效
| 申请号： | 201210011509.7 | 申请日： | 2012-01-13 |
| 公开（公告）号： | CN102610245A | 公开（公告）日： | 2012-07-25 |
| 发明（设计）人： | 齐藤公博;角洋次郎;小林诚司 | 申请（专利权）人： | 索尼公司 |
| 主分类号： | G11B7/242 | 分类号： | G11B7/242;G11B7/1353;G11B7/004 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 余刚;吴孟秋 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 记录 介质 再生 设备 | ||
1.一种记录介质，包括：
感光层；
非感光层；以及
记录层形成区，所述感光层和所述非感光层在所述记录层形成区中层压；
其中，所述感光层包括记录层，在所述记录层中，通过在用聚焦光照射的部分内删除或改变平行于记录介质表面形成的干涉条纹来记录信息，或者，使用在用聚焦光照射期间反射的光来再生信息。
2.根据权利要求1所述的记录介质，其中，所述记录层具有8PF以上且30PF以下的厚度，其中，PF表示所述干涉条纹的节距。
3.根据权利要求2所述的记录介质，其中，所述记录层具有8PF以上且22PF以下的厚度。
4.根据权利要求2所述的记录介质，其中，形成有所述干涉条纹的所述记录层在所述感光层的整个厚度方向延伸。
5.根据权利要求2所述的记录介质，其中，所述感光层包括多个所述记录层，在所述记录层中，所述干涉条纹形成在所述感光层的厚度方向上的一部分中。
6.根据权利要求2所述的记录介质，进一步包括参考面，所述参考面用于在记录或再生期间照射所述记录层的光的聚焦控制或追踪控制。
7.根据权利要求1所述的记录介质，其中，所述感光层和所述非感光层交替层压。
8.一种用于记录介质的再生设备，所述介质包括：
感光层；
非感光层；以及
记录层形成区，所述感光层和所述非感光层在所述记录层形成区中层压，其中，所述感光层包括记录层，在所述记录层中，通过在用聚焦光照射的部分内删除或改变平行于记录介质表面形成的干涉条纹来记录信息，或者，使用在用聚焦光照射期间反射的光来再生信息，所述再生设备包括：
光学拾取器，用光照射所述记录层并接收反射光；以及
信号处理单元，基于关于所述光学拾取器接收的所述反射光的信息，再生记录在所述记录层中的信息。
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