[发明专利]渗流式铝电解槽及稳定铝电解槽中铝液的方法有效

专利信息
申请号: 201210011603.2 申请日: 2012-01-13
公开(公告)号: CN102560544A 公开(公告)日: 2012-07-11
发明(设计)人: 吕晓军;赖延清;李劼;田忠良;张红亮 申请(专利权)人: 中南大学
主分类号: C25C3/08 分类号: C25C3/08;C25C3/20
代理公司: 长沙市融智专利事务所 43114 代理人: 黄美成
地址: 410083 湖南*** 国省代码: 湖南;43
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摘要:
搜索关键词: 渗流 电解槽 稳定 中铝液 方法
【权利要求书】:

1.一种渗流式铝电解槽,包括多个阴极炭块,阴极炭块底部设有阴极钢棒;其特征在于,在阴极碳块上部沿平行于阴极钢棒方向开设一条或多条横向导流沟,渗流阴极覆盖在部分或全部导流沟上,渗流阴极由一个或多个渗流阴极块组合而成;横向导流沟与外部的铝液之间具有渗流通道。

2.根据权利要求1所述的渗流式铝电解槽,其特征在于,渗流通道为渗流阴极块间缝隙或或渗流孔或渗流块与导流沟间的缝隙。

3.根据权利要求1所述的渗流式铝电解槽,其特征在于,渗流阴极块上设有渗流孔,所述的渗流通道为渗流阴极块间缝隙、渗流块与导流沟间的缝隙或渗流孔。

4.根据权利要求1所述的渗流式铝电解槽,其特征在于,在铝电解槽中缝对应的阴极碳块区域开设一条或多条纵向导流沟。

5.根据权利要求4所述的渗流式铝电解槽,其特征在于,纵向导流沟和横向导流沟直接导通,或者,纵向导流沟和横向导流沟之间设有隔墙。

6.根据权利要求1所述的渗流式铝电解槽,其特征在于,所有或部分渗流阴极的上表面处于同一平面。

7.根据权利要求1所述的渗流式铝电解槽,其特征在于,渗流阴极块由TiB2、ZrB2、SiC、TiC、TiN、ZrC、SiO2、Si3N4、Al2O3、MgO、MgAl2O4、C中的至少一种材料制成。

8.根据权利要求1-7任一项所述的渗流式铝电解槽,其特征在于,渗流阴极块采用平面左右凹合、Z字形上下凹合、粘接和直接拼接中的一种或多种方式进行组合。

9.根据权利要求8所述的渗流式铝电解槽,其特征在于,渗流阴极块的外形结构为正方形、长方形、三角形、梯形中的任一种,或由其中至少两种形状组合而成。

10.一种稳定铝电解槽中铝液的方法,其特征在于,采用权利要求1-7任一项所述的渗流式铝电解槽,使得铝液通过导流沟与外部的铝液之间的渗流通道渗流到横向导流沟中,从而稳定铝电解槽渗流阴极块上层的铝液。

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