[发明专利]大尺寸氯氟硼酸钡非线性光学晶体及其制备方法和用途有效
申请号: | 201210012481.9 | 申请日: | 2012-01-16 |
公开(公告)号: | CN103205811A | 公开(公告)日: | 2013-07-17 |
发明(设计)人: | 潘世烈;张敏 | 申请(专利权)人: | 中国科学院新疆理化技术研究所 |
主分类号: | C30B29/22 | 分类号: | C30B29/22;C30B7/10;G02F1/355;G02F1/39 |
代理公司: | 乌鲁木齐中科新兴专利事务所 65106 | 代理人: | 张莉 |
地址: | 830011 新疆维吾尔*** | 国省代码: | 新疆;65 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 尺寸 硼酸 非线性 光学 晶体 及其 制备 方法 用途 | ||
1.一种大尺寸氟硼酸氯钡非线性光学晶体,其特征在于该晶体的化学式为BaClBF4,分子量为259.60,属于正交晶系,空间群为Pmn21,单胞参数为a=5.228(3)b=9.351(5)c=4.734(3)Z=2。
2.根据权利要求1所述的大尺寸氟硼酸氯钡非线性光学晶体的制备方法,其特征在于采用水热法制备晶体,具体操作按下列步骤进行:
a、将BaCl2·2H2O或Ba(OH)2和HCl分别溶解在HBF4中,加入H3BO3或B2O3,将不完全溶解的混合物在温度为30-60℃下的超声波中处理60min,使其充分混合溶解;
或将BaCl2·2H2O或Ba(OH)2和HCl分别溶解在HBF4中,将不完全溶解的混合物在温度为30-60℃下的超声波中处理60min,使其充分混合溶解;
b、将步骤a中的溶液转入到体积为25-100mL的高压反应釜的聚四氟乙烯内衬中,并将反应釜旋紧密封;
c、将步骤b中的高压反应釜放置在恒温箱内,按温度20-60℃/h的速率升温至170-200℃,恒温3-15天,再以温度10-100℃/天的降温速率降至室温;
d、打开高压反应釜,淡黄色的澄清溶液中获得厘米级的大尺寸氟硼酸氯钡晶体。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于步骤a中BaCl2·2H2O和HBF4的摩尔比为1∶1.5-2;Ba(OH)2、HCl和HBF4的摩尔比为1∶1∶1.5-2。
4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于步骤a中BaCl2·2H2O、H3BO3和HBF4的摩尔比为1∶1∶1.5-2;BaCl2·2H2O、B2O3和HBF4的摩尔比为1∶0.5∶1.5-2;Ba(OH)2、HCl、H3BO3和HBF4的摩尔比为1∶1∶1∶1.5-2;Ba(OH)2、HCl、B2O3和HBF4的摩尔比为1∶1∶0.5∶1.5-2。
5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于步骤b溶液放在干净、无污染的高压反应釜内。
6.根据权利要求1所述的大尺寸氟硼酸氯钡非线性光学晶体的用途,其特征在于所述的氟硼酸氯钡非线性光学晶体用于制备倍频发生器或光参量振荡器。
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