[发明专利]磁性负电性显影剂有效
申请号: | 201210013068.4 | 申请日: | 2012-01-13 |
公开(公告)号: | CN102566345A | 公开(公告)日: | 2012-07-11 |
发明(设计)人: | 谭红亮;汤付根;曾国威 | 申请(专利权)人: | 珠海思美亚碳粉有限公司 |
主分类号: | G03G9/10 | 分类号: | G03G9/10;G03G9/107 |
代理公司: | 深圳市顺天达专利商标代理有限公司 44217 | 代理人: | 高占元;张秋红 |
地址: | 519170 广东省珠*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 磁性 负电 显影剂 | ||
技术领域
本发明属于显影技术领域,涉及一种显影剂,尤其涉及一种磁性负电性显影剂。
背景技术
目前,应用在激光打印机、激光复印机等电子照相成像设备上的显影剂可分为单组分显影剂和双组分显影剂,其中单组分显影剂是由单一的显影剂颗粒组成,而双组分显影剂是由载体和显影剂颗粒组成。不管是单组分显影剂颗粒还是双组分显影剂中的显影剂颗粒,它们一般是由粘合剂树脂、着色剂、脱模剂、电荷控制剂和外添加剂所构成。更具体的,显影剂颗粒包括基础粉和外添加剂两部分,基础粉是由粘合剂树脂、着色剂、脱模剂和电荷控制剂所构成的粒径为3-20微米大小的固体颗粒组成,外添加剂镶嵌、附着、粘附或包裹在基础粉颗粒的表面形成显影剂颗粒。
生产显影剂是先制备基础粉,制备基础粉的方法目前已知的有物理粉碎法和化学法,不同的制备方法得到的基础粉颗粒形状也不同。用物理粉碎法制备的基础粉形状一般是无规则的,用化学法制备的基础粉形状一般是球形的或者是近似球形的。为了提高基础粉颗粒的流动性、摩擦起电性、抗粘结性、储存稳定性等等性能,使显影剂在电子照相成像设备上顺利地实现显影、转印、定影等过程,需要使用一些外添加剂对基础粉进行表面处理。已知的外添加剂有无机物微粉,如二氧化硅微粉、二氧化钛微粉、氧化铝微粉、氧化铈微粉、氧化铁微粉、碳化硅微粉、钛酸锶微粉、钛酸钡微粉、硫酸钡微粉等;有硬脂酸金属盐类的微粉,如十八烷酸锌、十八烷酸钙、十八烷酸镁等;有高分子聚合物微粉,如聚甲基丙烯酸甲酯树脂微粉、聚丙烯酸树脂微粉、PP微粉、聚四氟乙烯微粉、聚偏二氟乙烯微粉等。不同的基础粉使用的外添加剂的种类和添加量也不一样,不同的外添加剂在显影剂中起的作用也不一样,这就导致显影剂中的外添加剂的使用种类非常的多,使用状况差异性也较大。好的外添加剂组合能使显影剂的性能优越,不好的外添加剂组合会使显影剂在成像过程中产生一些缺陷,如:在没有文字图像的区域存在比较多的显影剂就会产生底灰缺陷,在连续打印过程中随着打印量的增加,陆续地有一些显影剂或者外添加剂粘附在有机感光鼓OPC上产生粘鼓缺陷。尤其是为了保护环境,一些回收的粉盒会重复使用,但在使用回收的粉盒进行打印的时候,由于回收粉盒的OPC已经使用了一个寿命了,OPC的表面已经有一些磨损,使得显影剂更加容易出现粘鼓的缺陷。还有在环境温度和湿度较高的情况下,粘鼓的问题更加容易产生。
发明内容
本发明要解决的技术问题在于,针对现有技术中显影剂会造成打印底灰、显影剂粘鼓的缺陷,提供一种具有优良的抗粘鼓性能、而且没有底灰缺陷、色密度高的磁性负电性显影剂。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:一种磁性负电性显影剂,包括基础粉和外添加剂,所述外添加剂包括以下重量份数的原料:
所述添加剂A包括含氟聚合物微粉A1、二氧化硅微粉A2,所述含氟聚合物微粉A1与二氧化硅微粉A2的重量比为100∶5-20;所述含氟聚合物微粉A1与二氧化硅微粉A2的重量比优选100∶10。
所述添加剂B包括磁性氧化铁微粉、硅油、含氟聚合物微粉B1和二氧化硅微粉B2,所述的磁性氧化铁微粉、硅油、含氟聚合物微粉B1和二氧化硅微粉B2的重量比为100∶15-25∶3-10∶10-30。氧化铁微粉的形状优选立方体形、球形、不规则形、针形或八面体形。
所述含氟聚合物微粉A1、含氟聚合物微粉B1的平均粒径D50分别为0.1-10微米,熔点都在120-180℃之间,吸水率都小于0.1%,含水量都小于0.5%。所述含氟聚合物微粉A1、含氟聚合物微粉B1优选聚偏二氟乙烯微粉。
所述含氟聚合物微粉A1、含氟聚合物微粉B1分别为聚偏二氟乙烯微粉、聚四氟乙烯微粉、聚氟乙烯微粉、聚三氟乙烯微粉中的一种。
所述的二氧化硅微粉A2、二氧化硅微粉B2都是经疏水化表面处理剂处理过的气相法生产的二氧化硅微粉,所述的二氧化硅微粉A2、二氧化硅微粉B2的平均原生粒径D50都在5-30纳米。
所述二氧化硅微粉C为经气相法或沉淀法生产且经疏水化表面处理剂处理过的二氧化硅微粉,所述二氧化硅微粉C的平均原生粒径D50在5-500纳米。
所述二氧化硅微粉C为单独一种二氧化硅微粉,或者是不同粒径、不同的疏水化表面处理剂处理的二氧化硅微粉的混合物。
所述的疏水化表面处理剂为聚二甲基硅氧烷、六甲基二硅氮烷、二甲基二氯硅烷、烷基硅烷、八甲基环四硅氧烷中的一种。
所述的二氧化硅微粉A2、二氧化硅微粉B2分别选择经过聚二甲基硅氧烷表面处理的气相法二氧化硅。
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