[发明专利]用于补偿光刻成像质量的光瞳修正方法及光刻曝光系统

权利要求书

1.一种用于补偿光刻成像质量的光瞳修正方法，其特征在于，包括：指定多个掩模版和投影物镜的光瞳，获得多种照明光源图像，建立所述多种照明光源主成分和空间像之间的关系；在所述指定中选择一组掩模版和光瞳，对其名义光源进行主成分分析，获得各个主成分的名义权重，结合所述多种照明光源主成分和空间像之间的关系，利用查表算法和线性回归算法计算出所述各个主成分的目标权重，从而获得光源参数设置变化量和光源内部可动元件调整量。

2.如权利要求1所述用于补偿光刻成像质量的光瞳修正方法，其特征在于，所述建立所述多种照明光源主成分和空间像之间的关系的具体步骤包括：

S2.1选取所述多种照明光源中的典型照明光源进行主成分分析，得到所述典型照明光源主成分和主成分权重；

S2.2根据Abbe模型对所述典型照明光源每个主成分进行空间像仿真计算，获得所述典型照明光源主成分空间像，建立起所述多种照明光源主成分和空间像之间的关系。

3.如权利要求2所述用于补偿光刻成像质量的光瞳修正方法，其特征在于，所述多种照明光源主成分和空间像之间的关系表达式为：                                               ，其中I是光源的空间像，I_i 是光源主成分空间像，PC_i是主成分权重。

4.如权利要求1所述用于补偿光刻成像质量的光瞳修正方法，其特征在于，所述结合所述多种照明光源主成分和空间像之间的关系利用查表算法和线性回归算法计算出所述各个主成分的目标权重的具体步骤包括：

S3.1采集所述一组掩模版和光瞳对应的光刻机上得到的实际CD值并计算出和目标CD之差ΔCD；

S3.2根据对其名义光源进行主成分分析后得到的所述各个主成分的名义权重，从所述多种照明光源主成分和空间像之间的关系中利用查表算法找到对应的光源主成分空间像，计算出理论CD值；；

S3.3根据ΔCD和理论CD值，利用线性回归方法计算出各个主成分的目标权重。

5.如权利要求1所述用于补偿光刻成像质量的光瞳修正方法，其特征在于，所述获得光源参数设置的变化量的方法为计算目标权重和名义权重之差ΔPC_i，再利用转换矩阵U_mp计算出光源参数设置的变化量ΔE_i为：

。

6.如权利要求1所述用于补偿光刻成像质量的光瞳修正方法，其特征在于，所述获得光源内部可动元件调整量的方法为通过转换公式vpq将所述光源参数设置的变化量ΔE_i转换为所述光源内部可动元件调整量 ΔD_i：

。

7.一种补偿光刻成像质量的光刻曝光系统，其特征在于，包括：

一照明单元，用于提供曝光光束；

一掩模台，用于支撑一掩模；

一工件台，用于支撑一基底并提供六自由度运动；

一投影物镜，用于将掩模上图形投射至基底；

  所述照明单元包括所述可动元件，用于调整照明光源，所述可动元件的调整采用如权利要求1至6任一项所述的光瞳修正方法。