[发明专利]电容器用导电基底涂料、电容器用电极以及双电层电容器和锂离子电容器有效

专利信息
申请号: 201210014785.9 申请日: 2012-01-17
公开(公告)号: CN102746805B 公开(公告)日: 2017-04-12
发明(设计)人: 白髭稔 申请(专利权)人: 日立化成工业株式会社
主分类号: C09J9/02 分类号: C09J9/02;C09J11/04;H01G11/68
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司11243 代理人: 金鲜英,刘强
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 电容 器用 导电 基底 涂料 电极 以及 双电层 电容器 锂离子
【说明书】:

技术领域

本发明涉及双电层电容器用电极或锂离子电容器用电极的导电基底涂料、使用其的电容器用电极以及双电层电容器和锂离子电容器。

背景技术

对于双电层电容器或锂离子电容器的内部电阻的降低而言,集电体与活性物质层之间的接触电阻的降低、特别是抑制耐久试验后的接触电阻的上升以及提高电子的导通性很重要。但是,例如在以铝作为集电体的电极中,在高温保存等耐久性试验后铝的表面上形成高电阻的钝态被膜,导电性降低。

对于改良铝表面的导电性,例如在日本特开2000-164466号公报中记载了使用通过真空蒸镀法在铝材料的表面上形成有碳膜的集电体,并在其上被覆活性物质。

另外,在日本特开2006-286427号公报中提出了在集电体的表面上接合导电材料、进而在导电材料表面上形成有凹凸的集电体。具体而言,研究了向集电体的表面的石墨或碳化钛的喷雾。但是,这些由于导电材料的固定不充分,因此期望提高集电体与活性物质层的密合性。另外,对铝表面上的被覆状态不能说是完全的,钝态被膜的成长抑制效果少。

国际公开2010/086961A1中记载了,为了改善密合性,在由铝构成的集电体表面上附着树脂被覆的含碳粒子后,在包含含烃物质的空间中配置铝并进行加热,并且提出了在铝表面上由含碳粒子和铝的碳化物构成的碳被覆铝材料。但是,在该方法中,铝集电体的制造成本上升。

另外,以往,为了提高双电层电容器的生产率和降低内部电阻,提出了极化性多孔质片与集电体的粘接性好、电阻值低的导电粘接剂。

例如,在日本专利第4371979号公报中提出了导电粘接剂的组成由合成橡胶以及作为碳材料的鳞片状石墨和碳黑构成的导电粘接剂,通过导电粘接剂进入极化性多孔质片的空孔内,实现密合性和内部电阻的降低。本方法有助于电容器的生产率提高。

但是,在将该方法应用于集电体时,需要进一步考虑接触电阻的降低,另外,对于提高耐久性,需要研究钝态被膜的生长抑制效果。另外,集电体的薄型化也与电极层在电池中所占的占有面积的增加、由电极层面积的增加引起的内部电阻的降低、进而生产费用的降低有关,作为导电基底层,期望形成即使薄也致密、均匀的膜。

在日本特开2006-210883号公报中,为了集电体的薄型化,提出了使用石墨化碳黑作为导电性碳的结合层材料。另外,提出了通过在强度优良、但内部电阻容易上升或可靠性容易降低的铝素箔(プレ一ン箔)上使用结合层材料,有助于集电体的薄膜化、低电阻化、可靠性提高。但是,在该方法中,对铝表面上的碳黑的被覆状态也不能说是完全的,钝态被膜的生长抑制效果少,需要进行改善。

在日本特开2010-108971号公报中,提出了一种电极,包括:在集电体上形成导电粘接剂层的工序和在导电粘接剂层上形成活性物质的工序,导电粘接剂层含有碳粒子以及粘接剂,面粗糙度Ra与厚度d之比Ra/d为0.03以上1以下。根据该方法,能够制作电极强度优良、降低内部电阻、提高功率密度的电极,但为了抑制铝表面的钝态被膜的生长,需要导电基底层的致密化和改善被覆状态。

发明内容

本发明要解决的课题

鉴于上述状况,本发明的课题在于,提供有助于在双电层电容器用电极或锂离子电容器用电极中的集电体与活性物质之间的接触电阻降低以及电子的导通性提高、对于集电体与活性物质含有层的密合性的提高有效、且能够以膜厚10μm左右以下均匀地涂布的导电基底涂料、使用其的双电层电容器用电极以及锂离子电容器用电极以及双电层电容器和锂离子电容器。

解决课题的方法

本发明涉及如下方案。

<1>一种电容器用电极的导电基底涂料,其形成含有集电体以及活性物质的双电层电容器用电极或锂离子电容器用电极的导电基底被膜,其中,

上述导电基底涂料包含薄片化石墨,

上述薄片化石墨的50质量%激光衍射直径(X50dif)为12μm以下,50质量%斯托克斯直径(X50st)为5.5μm以下,薄片化指数(X50dif/X50st)为2.2~5.0。

<2>上述<1>所述的导电基底涂料,其中,还包含碳黑,

上述薄片化石墨以及碳黑的总含有率为75质量%~90质量%的范围,

上述薄片化石墨与上述碳黑的质量比率(薄片化石墨∶碳黑)为97∶3~1∶8的范围。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日立化成工业株式会社,未经日立化成工业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210014785.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top