[发明专利]一种降低光刻机镜头过热的方法无效
| 申请号： | 201210014810.3 | 申请日： | 2012-01-18 |
| 公开（公告）号： | CN102540763A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | 魏芳;阚欢 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/70 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人： | 王敏杰 |
| 地址： | 201210 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 降低 光刻 镜头 过热 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种降低光刻机镜头过热的方法，其特征在于，包括如下步骤，
先计算透光区域面积占整个曝光单元面积的比例A，然后依据所述A的比例关系在距有效器件的距离大于或者等于D的空旷区域添加冗余图形。
2.根据权利要求1所述的一种降低光刻机镜头过热的方法，其特征在于，所述透光区域面积占整个曝光单元面积的比例A的范围为0.3至1。
3.根据权利要求1所述的一种降低光刻机镜头过热的方法，其特征在于，所述冗余图形距有效器件距离D为大于或等于0.5um。
4.根据权利要求1所述的一种降低光刻机镜头过热的方法，其特征在于，当所述透光区域面积占整个曝光单元面积的比例A大于或等于0.5时，在距离有效器件大于或等于2um之外的区域插入所述冗余图形。
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