[发明专利]吸附台

说明书

技术领域

本发明涉及通过吸附而对印制电路基板和液晶基板等基板(后文称为工件)进行保持的吸附台以及装载该吸附台的曝光装置。

背景技术

光刻法被广泛应用于各种领域，利用曝光装置，在涂敷了光致抗蚀剂等感光材料的工件的表面，对既定掩模图形进行曝光，然后通过刻蚀工序在基板上形成掩模图形，印制电路基板和液晶基板等也使用曝光装置来制造。在这种曝光装置中，利用投影透镜，使透过形成有既定图形的掩模的曝光光成像在工件的表面，从而将既定的掩模图形形成在工件上。在这种曝光装置中公知一种吸附台，该吸附台通过吸附方式保持工件，使曝光光成像于工件表面的期望的位置处(例如，参考专利文献1)。

在原有的曝光装置的吸附台上，在作为载放台的基板夹持台上设置有贯穿贯通孔而可上下移动的接受销和由孔形成的吸盘。在该吸附台上，以从基板夹持台的载放面伸出的接受销的上端来承接由搬送臂搬送来的工件，使搬送臂后退，然后将接受销降低，从而把该工件放置在基板夹持台的载放面上，从而可以利用吸盘吸附该工件的方式来保持该工件。

(现有技术文献)

(专利文献1)日本特开2004-186681号公报

这种曝光装置是借助曝光光的成像而将掩模图形形成在工件上，因而要求保持在载放面上的工件相对成像面呈平坦的状态。然而，在上述过去的吸附台中，仅仅是放置在高面精度的基板加以吸附，因而，很难将工件在由接受销支承的状态下出现的挠曲(也称为起伏不平和翘曲。无论整体上还是局部上)。为此，一般考虑采取如下结构，即借助多个卡爪推压载放面上的工件使工件变成平坦状态后再由吸盘吸附。

但是，若像这样构成，则需要使卡爪向放置在承载面上的工件上伸出和放入，这样就导致掩模图形形成所需要的时间(加工能力)的增大；此外，借助多个卡爪推压工件可能会使工件表面擦伤，卡爪的动作也可能使工件沾染灰尘。进而，由于上述情况而存在导致产品精度降低的可能性。

发明内容

本发明正是鉴于上述情况而提出，其目的在于提供一种不会导致作业时间增大和产品精度的降低、而可以以平坦的状态来保持工件的吸附台。

技术方案1中所述的发明涉及一种吸附台，使工件保持在平坦的载放面上，在该工件上曝光光被成像而使既定的掩模图形曝光，其特征在于，包括：固定吸附机构，可吸附所述工件而使所述工件相对所述载放面的姿态固定；平面吸附机构，可吸附所述工件而使所述工件的面与所述载放面抵接，所述平面吸附机构具有多个在所述载放面上开设的平面吸附孔，从所述载放面上的任意一点起朝向所述载放面的外缘，逐步进行利用所述平面吸附孔的吸附动作。

技术方案2中所述的发明的特征在于，在技术方案1中所述的吸附台中，所述平面吸附机构在所述载放面上具有多个吸附分区，在该各吸附分区内具有至少1个所述平面吸附孔，并且按照所述各吸附分区单位进行所述各平面吸附孔的吸附动作。

技术方案3中所述的发明的特征在于，在技术方案1或2中所述的吸附台中，所述固定吸附机构在所述载放面上具有至少2个固定吸附部，该各固定吸附部可以以其上端面吸附到所述工件上。

技术方案4中所述的发明的特征在于，在技术方案3中所述的吸附台中，所述各各固定吸附部在已将所述工件吸附保持的状态下，所述固定吸附部的上端面可以沿所述载放面的方向改变位置。

技术方案5中所述的发明的特征在于，在技术方案3中所述的吸附台中，还具有相对所述载放面沿所述载放面的正交方向自如进退的、上端具有吸附面的升降销，所述各固定吸附部能够在使所述固定吸附部的上端面从所述载放面起沿所述正交方向伸出的状态下，对所述工件吸附保持，而且在吸附保持所述工件的状态下，所述固定吸附部的上端面和所述载放面能够成为同一水平面。

技术方案6中所述的发明的特征在于，在技术方案1或2中所述的吸附台中，所述平面吸附机构从所述载放面的中心位置起朝向所述载放面的周缘部，按顺序进行利用所述各平面吸附孔的吸附动作。

技术方案7中所述的发明的特征在于，在技术方案1或2中所述的吸附台中，所述平面吸附机构从所述载放面的缘部起朝向穿过所述载放面的中心位置的方向，按顺序进行利用所述各平面吸附孔的吸附动作。

技术方案8中所述的发明的特征在于，在技术方案1或2中所述的吸附台中，除了上述结构之外，所述平面吸附机构根据已进行吸附动作的所述平面吸附孔的吸附状态，进行利用接下来的所述平面吸附孔的吸附动作。