[发明专利]高温仿全抛釉透明熔块及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种用于陶瓷釉面地砖的釉熔块。

背景技术

陶瓷釉砖生产用釉熔块，是陶瓷釉砖生产中，十分重要的原料。

熔块是一种玻璃，一定的原料组成，经高温熔融骤冷而成。具有不可溶性、稳定性等特点，经研磨后施于各种器皿和坯体上，烧制后薄层的玻璃质。熔块釉依其特性不同分为透明熔块釉、乳白熔块釉、含铅熔块釉及无铅熔块釉。熔制过程中，因制造方式不同而又粒状及片状之外观。因熔块釉具有不可溶性，所以安全性高，可单独使用，也可添加于一般生料釉中当溶剂使用。

陶瓷釉面地砖平整、光洁、花色繁多。以其华丽而不污染环境的装饰效果成为广泛使用的装饰材料。然而其釉面毕竟是一层玻璃釉。硬底鞋带入的沙子可以使釉面产生划痕。若经过长时间磨损，甚至可以露出斑驳的胎底色。自然影响耐久的装饰效果。由于抛光过程破坏了玻化的闭孔表面，使其成为开放的孔隙，这就带来了抛光玻化砖容易被污染的问题。同时抛釉在抛光时对于砖的平整度度要求较高。

发明内容

本发明的目的是提供一种高温仿全抛釉透明熔块及其制造方法，以克服现有技术存在的上述缺陷。

本发明的高温仿全抛釉透明熔块，由如下重量百分比的组分组成：

各个组分的百分比之和为100％

优选的，由如下重量百分比的组分组成：

本发明高温仿抛釉透明熔块的制备方法，包括如下步骤：

将钠长石、滑石、二氧化钛、石英、氧化锌、碳酸钙、硼酸和氧化铝分别球磨至200目筛网余2～3％(重量)目，过筛混合，在1450～1670℃下，煅烧45～60min，即可获得高温仿抛釉透明熔块；

所述氧化铝优选纳米级氧化铝，最好是粒径在50-300纳米的氧化铝，此时煅烧温度为1150-1210℃。

其中：各个组分的重量百分比为：

优选的，各个组分的重量百分比为：

本发明的高温仿抛釉透明熔块的使用方法如下：

将所制得的熔块与高岭土一起球磨，然后将球磨产物施于已印好花釉的未烧釉面砖上，置入辊道窑烧制，即可得最终陶瓷釉面砖；

所述的高温仿抛釉透明熔块的重量用量为95％，粘土为5％；

本发明高温仿抛釉透明熔块平整度好、透明度高、亮度高，与普通全抛砖无明显区别，在生产工艺上能简化生产设备，降低生产成本。尤其是加入纳米级氧化铝，可显著降低烧结温度。

采用本发明的高温仿抛釉透明熔块制备的陶瓷釉面砖，在不需要抛光就达到抛光效果的同时，不会破坏玻化的闭气孔表面，抗污性比抛光的要好。而且生产工艺得到简化，降低生产成本。

具体实施方式

实施例1

配方：(重量)

制备方法：

将钠长石、滑石、二氧化钛、石英、氧化锌、碳酸钙、硼酸和氧化铝分别球磨至200目筛网余2％(重量)目，过筛混合，在1450℃下，煅烧60min，即可获得高温仿抛釉透明熔块；

其中：各个组分的重量百分比为：

检测结果如下：

将用本专利制作且未抛光的砖与普通全抛釉抛光后的砖做比对，本专利制作的砖釉面平整度好、透明度高、亮度高，与普通全抛釉抛光后的砖无明显区别。

平整度采用GB 11948-89进行检测。

其他采用目测方法进行。

实施例2

配方：(重量)

制备方法：

将钠长石、滑石、二氧化钛、石英、氧化锌、碳酸钙、硼酸和氧化铝分别球磨至200目筛网余3％(重量)目，过筛混合，在1670℃下，煅烧45min，即可获得高温仿抛釉透明熔块。

其中：各个组分的重量百分比为：

采用目测方法进行检测，结果如下：

将用本专利制作且未抛光的砖与普通全抛釉抛光后的砖做比对，本专利制作的砖釉面平整度好、透明度高、亮度高，与普通全抛釉抛光后的砖无明显区别。

平整度采用GB 11948-89进行检测。

其他采用目测方法进行。

实施例3

配方：(重量)

制备方法：