[发明专利]低温真空镀膜装置无效
申请号: | 201210018196.8 | 申请日: | 2012-01-20 |
公开(公告)号: | CN102534506A | 公开(公告)日: | 2012-07-04 |
发明(设计)人: | 史旭 | 申请(专利权)人: | 纳峰真空镀膜(上海)有限公司 |
主分类号: | C23C14/22 | 分类号: | C23C14/22;C23C14/02 |
代理公司: | 上海东亚专利商标代理有限公司 31208 | 代理人: | 罗习群;刘莹 |
地址: | 201700 上海市青浦区青*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 低温 真空镀膜 装置 | ||
技术领域
本发明涉及真空电镀领域,特别涉及一种低温真空镀膜装置。
背景技术
常见的真空电镀,被镀的产品一般都是金属制品,因为在真空电镀条件下,温度都比较高,传统的溅射镀膜也必须在高温条件下形成较密的膜层,塑料制品等不能耐受高温,否则将引起产品变形。
发明内容
为解决前述存在的问题,本发明提供一种低温真空镀膜装置,该装置一真空镀膜腔体与过滤阴极离子真空镀膜源连接,真空镀膜腔体设有分子真空泵,并在真空镀膜腔体设有离子束清洗源,清洗被镀工件,真空镀膜腔体温度低于800C,被镀工件放置于真空镀膜腔体内,用过滤阴极离子真空镀膜源对其镀膜,膜源的粒子方向是可调整的,可从不同的角度对被镀工件进行镀膜。
被镀工件是金属制品、或是非金属制品、或是塑料制品、或是橡胶制品。
本发明的优点是,被镀工件即使在小于800C温度条件下,仍有足够的镀层厚度,而且耐磨、耐腐蚀,并且能够镀制小型、细薄的塑料制品而不使产品变形,特别适用于某些精细加工行业。
附图说明
附图1是本发明主视图;
附图2是附图1的侧视图。
具体实施方式
请参阅附图1、2所示,本发明是一真空镀膜腔体3与过滤阴极离子真空镀膜源1连接,真空镀膜腔体3设有分子真空泵4,并在真空镀膜腔体3设有离子束清洗源,清洗被镀工件,真空镀膜腔体3温度低于800C,被镀工件塑料制品,或橡胶制品放置于真空镀膜腔体3内,用过滤阴极离子真空镀膜源1对其镀膜,膜源1经过滤器2后的粒子方向能够调整,可以从不同的角度对被镀工件进行镀膜。
本发明的过滤阴极离子真空镀膜源1是申请人的专利,属现有技术。
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