[发明专利]连续真空镀膜装置

权利要求书

1.一种连续真空镀膜装置，其特征在于：该装置由若干个镀膜腔体串接节联构成，每个镀膜腔体配置有离子束清洗源、和/或过滤阴极真空镀膜膜源、和/或磁控溅射源和分子真空泵，镀膜腔体之间用插板阀关闭密封或开启，节联的镀膜腔体，两头各有一个装载/卸载室和一个真空过渡室，装载/卸载室后面分别有镀制工件转动架平台，镀制工件转动架平台上放置镀制工件转动架，镀制工件转动架上悬挂有镀制工件，镀制工件转动架通过传动滚轴传送到各个镀膜腔体，依次、连续实施不同需求的连续镀膜后，分别从一端的装载/卸载室取出。

2.根据权利要求1所述的连续真空镀膜装置，其特征在于：所述多个镀膜腔体，每个腔体是框架箱体结构，腔体两头是矩形开口，分别与矩形插板阀连接密封，或者两腔体对接密封，旁边设有分子真空泵，腔休下方有传动滚轴，腔体底部与旋转加偏压装置连接，腔体一侧有过滤阴极真空镀膜膜源接口。

3.根据权利要求1所述的连续真空镀膜装置，其特征在于：所述两头的装载/卸载室和真空过渡室，其大小与镀膜腔体匹配，并与镀膜腔体串接贯通，由插板阀连接密封，每个真空过渡室有分子真空泵。

4.根据权利要求2所述的连续真空镀膜装置，其特征在于：所述旋转加偏压装置，设有气缸和电动机，电动机转轴连接一纵向转轴，转轴顶端有机械咬合装置，通过气缸使旋转加偏压装置升降，上升时，机械咬合装置嵌进镀膜腔体内放置的镀制工件转动架的槽内嵌合，电机带动镀制工件转动架在镀膜腔体内旋转，实施镀膜。

5.根据权利要求1所述的连续真空镀膜装置，其特征在于：所述的过滤阴极真空镀膜膜源在每个镀膜腔体内设置有不同高度的过滤阴极真空镀膜膜源，膜源粒子的方向角度，能够调整。