[发明专利]具有控制施于基材上的等离子体偏压能力的连续腔体制程设备

权利要求书

1.一种具有控制施于基材上的等离子体偏压能力的连续式系统等离子体制程设备，其特征在于，该设备上有一腔体，适用该等离子体制程，该腔体尚包括以下组件：电极、基材载具、传动装置，该电极可放置于两个位置，其第一位置使该电极与基材载具电性脱离，其第二位置使该电极与基材载具电性接合。

2.根据权利要求1所述具有控制施于基材上的等离子体偏压能力的连续式系统等离子体制程设备，其特征在于，所述电极于放置于第一位置时，该基材载具可自由移进或移出该腔体，不受该电极位置的妨害。

3.根据权利要求1所述具有控制施于基材上的等离子体偏压能力的连续式系统等离子体制程设备，其特征在于，所述电极放置于第一位置时，该基材载具与该传动装置电性连接。

4.根据权利要求1所述具有控制施于基材上的等离子体偏压能力的连续式系统等离子体制程设备，其特征在于，所述电极放置于第二位置时，该基材载具与该传动装置电性分离。

5.根据权利要求1所述具有控制施于基材上的等离子体偏压能力的连续式系统等离子体制程设备，其特征在于，所述电极与至少一个电源产生器电性连结，当该电极位于第二位置时，该基材载具经由该电极与该电源产生器或该些电源产生器电性连结。

6.根据权利要求1所述具有控制施于基材上的等离子体偏压能力的连续式系统等离子体制程设备，其特征在于，所述电极位于该基材载具下方。

7.根据权利要求1所述具有控制施于基材上的等离子体偏压能力的连续式系统等离子体制程设备，其特征在于，所述电极位于第一位置时，在该传动装置之下。

8.根据权利要求1所述具有控制施于基材上的等离子体偏压能力的连续式系统等离子体制程设备，其特征在于，所述电极位于第二位置时，在该传动装置之上。

9.根据权利要求1所述具有控制施于基材上的等离子体偏压能力的连续式系统等离子体制程设备，其特征在于，所述电极与至少一个电源供应器电性连结，当该电极位于第二位置时，该基材载具与至少一个电源供应器电性连结，该电源供应器或该些电源供应器产生电磁波，使得腔体内的气体离子化，产生等离子体，该电源供应器或该些电源供应器能够在等离子体产生时，监控或调整该电极上的电压或电流。

10.根据权利要求1所述具有控制施于基材上的等离子体偏压能力的连续式系统等离子体制程设备，其特征在于，所述电极与至少一个电源供应器电性连结，该电源供应器能够在等离子体产生时，监控该电极表面的电容。

11.根据权利要求1所述具有控制施于基材上的等离子体偏压能力的连续式系统等离子体制程设备，其特征在于，所述电极除与一电源供应器电性连结，尚与一匹配电路电性链接，该匹配电路能够在等离子体产生时，读出等离子体偏压，借由控制等离子体的偏压，达到控制制程的目的。

12.根据权利要求1所述具有控制施于基材上的等离子体偏压能力的连续式系统等离子体制程设备，其特征在于，所述等离子体制程为一等离子体蚀刻制程，等离子体清洁制程，等离子体辅助化学蒸气蒸镀制程，溅镀制程，物理蒸气蒸镀，或数个该些制程混合的制程。

13.根据权利要求1所述具有控制施于基材上的等离子体偏压能力的连续式系统等离子体制程设备，其特征在于，所述等离子体制程为装饰镀膜制程之用。

14.根据权利要求1所述具有控制施于基材上的等离子体偏压能力的连续式系统等离子体制程设备，其特征在于，所述基材载具上尚置有绝缘材料，使其与传动装置以及腔体电性隔绝。

15.一种具有可监视或控制施于基材上的等离子体偏压能力的等离子体制程，其特征在于，可实施于连续式系统制程设备上，该等离子体制程能借由读出一位置可改变电极的偏压，监视或调控施于基材表面的等离子体偏压。

16.根据权利要求15所述一种具有控制施于基材上的等离子体偏压能力的等离子体制程，其特征在于，所述等离子体制程为一等离子体清洁制程。

17.根据权利要求15所述一种具有控制施于基材上的等离子体偏压能力的连续式系统等离子体制程，其特征在于，所述等离子体制程为一等离子体偏压调整制程，适用于镀膜工程之用。