[发明专利]喷淋头的清洗方法无效
| 申请号： | 201210019422.4 | 申请日： | 2012-01-21 |
| 公开（公告）号： | CN103071647A | 公开（公告）日： | 2013-05-01 |
| 发明（设计）人： | 叶芷飞 | 申请（专利权）人： | 光达光电设备科技（嘉兴）有限公司 |
| 主分类号： | B08B7/00 | 分类号： | B08B7/00;B08B7/04 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 郑玮 |
| 地址： | 314300 浙江省嘉兴市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 喷淋 清洗 方法 | ||
1.一种喷淋头的清洗方法，所述喷淋头用于在反应腔室内进行化学气相沉积工艺，其特征在于，在所述化学气相沉积工艺完成后，在反应腔室外部对喷淋头进行非原位清洗。
2.如权利要求1所述的喷淋头的清洗方法，其特征在于，所述非原位清洗为化学清洗、等离子体清洗或机械清洗中的一种或多种。
3.如权利要求2所述的喷淋头的清洗方法，其特征在于，所述化学清洗包括向所述喷淋头通入含氯元素的气体和/或对所述喷淋头加热。
4.如权利要求3所述的喷淋头的清洗方法，其特征在于，所述含氯元素的气体包括：HCl、Cl2、BCl4中的一种或多种。
5.如权利要求3所述的喷淋头的清洗方法，其特征在于，所述加热步骤的温度范围为500～800摄氏度。
6.如权利要求2所述的喷淋头的清洗方法，其特征在于，所述化学清洗为在含氢氧化钠的溶液中对所述喷淋头进行浸泡至少3小时。
7.如权利要求6所述的喷淋头的清洗方法，其特征在于，所述含氢氧化钠的溶液的氢氧化钠的质量浓度为5～20％。
8.如权利要求7所述的喷淋头的清洗方法，其特征在于，所述机械清洗为利用机械手夹持清洗刷对喷淋头表面进行清洗。
9.如权利要求2所述的喷淋头的清洗方法，其特征在于，所述等离子体清洗包括：利用含氢离子、氯离子、氟离子、溴离子中的一种或多种离子的等离子体进行的第一清洗步骤和利用含氧离子的等离子体进行的第二清洗步骤。
10.如权利要求9所述的喷淋头的清洗方法，其特征在于，所述第一清洗步骤和第二清洗步骤交替进行。
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