[发明专利]共轭二烯系聚合物的制备方法,共轭二烯系聚合物和共轭二烯系聚合物组合物无效

专利信息
申请号: 201210019528.4 申请日: 2012-01-20
公开(公告)号: CN102617796A 公开(公告)日: 2012-08-01
发明(设计)人: 伊藤真;稻垣胜成;大岛真弓 申请(专利权)人: 住友化学株式会社
主分类号: C08F236/10 分类号: C08F236/10;C08F230/08;C08F4/48;C08L9/06
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 李新红
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 共轭 二烯系 聚合物 制备 方法 组合
【权利要求书】:

1.一种用于制备共轭二烯系聚合物的方法,所述方法包括:将作为聚合引发剂组分的下列化合物(I)和(II)依次以化合物(I)和化合物(II)的顺序加入到含有至少一种单体组分并且使用烃作为溶剂的溶液中,以及聚合包含共轭二烯化合物和含硅的乙烯系化合物的单体组分,

(I)有机碱金属化合物;

(II)由下式(1)表示的化合物:

其中,R11表示含3至20个碳原子并且任选地具有选自由硅原子、氮原子和氧原子组成的原子组中的至少一种原子作为杂原子的亚烃基。

2.根据权利要求1所述的用于制备共轭二烯系聚合物的方法,其中当所述单体组分的聚合转化率为5重量%以下时,将所述化合物(II)加入至所述溶液中。

3.根据权利要求2所述的用于制备共轭二烯系聚合物的方法,其中基于1mol的所述化合物(I)的添加量,在所述单体组分的聚合转化率为5重量%以下时添加的所述化合物(II)的量为0.5mol至2.0mol。

4.根据权利要求1所述的用于制备共轭二烯系聚合物的方法,其中使含有氮原子和/或硅原子的化合物与通过聚合制备的聚合物的活性端反应。

5.根据权利要求4所述的用于制备共轭二烯系聚合物的方法,其中所述含有氮原子和/或硅原子的化合物为含有氮原子和羰基的化合物。

6.一种通过权利要求1至5中任一项所述的方法制备的共轭二烯系聚合物。

7.一种共轭二烯系聚合物组合物,所述共轭二烯系聚合物组合物包含根据权利要求6所述的共轭二烯系聚合物和增强剂,其中相对于100重量份的所述共轭二烯系聚合物,所述增强剂的含量为10重量份至150重量份。

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