[发明专利]一种半导体直流变压器有效

专利信息
申请号: 201210020018.9 申请日: 2012-01-20
公开(公告)号: CN102569489A 公开(公告)日: 2012-07-11
发明(设计)人: 郭磊 申请(专利权)人: 郭磊
主分类号: H01L31/173 分类号: H01L31/173
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 张大威
地址: 100084 北京市*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 半导体 直流 变压器
【权利要求书】:

1.一种半导体直流变压器,其特征在于,包括:

多个串联的半导体电光转换结构,用于将输入电能转换为光能;和

多个串联的半导体光电转换结构,用于将所述光能转换为输出电能,其中,所述半导体光电转换结构的数目与所述半导体电光转换结构的数目不同以实现直流变压,且所述半导体电光转换结构与所述半导体光电转换结构的工作光线匹配。

2.如权利要求1所述的半导体直流变压器,其特征在于,所述半导体电光转换结构包括发光二极管、谐振发光二极管或激光二极管。

3.如权利要求1所述的半导体直流变压器,其特征在于,所述半导体光电转换结构为具有背接触或埋接触的单面引出电极结构的光电池。

4.如权利要求1所述的半导体直流变压器,其特征在于,所述半导体电光转换结构或所述半导体光电转换结构包括多个并联的半导体电光转换子单元或多个并联的半导体光电转换子单元。

5.如权利要求1-4中任一项所述的半导体直流变压器,其特征在于,还包括:

隔离层,

其中,所述多个半导体电光转换结构形成在所述隔离层一侧,且每个半导体电光转换结构包括电光转换层,以及所述多个半导体光电转换结构形成在所述隔离层另一侧,且每个光电转换结构包括光电转换层,其中,所述隔离层对所述电光转换层发出的工作光线透明。

6.如权利要求5所述的半导体直流变压器,其特征在于,所述半导体电光转换结构、所述隔离层和所述半导体光电转换结构具有相近似的折射系数。

7.如权利要求5所述的半导体直流变压器,其特征在于,所述半导体电光转换结构、所述隔离层和所述半导体光电转换结构的材料折射系数呈梯度逐级递增。

8.如权利要求5所述的半导体直流变压器,其特征在于,所述半导体电光转换结构、所述隔离层和所述半导体光电转换结构中的至少一个具有粗糙化表面、图形化表面或光子晶体结构。

9.如权利要求5所述的半导体直流变压器,其特征在于,还包括:

位于所述电光转换层顶部的第一接触层,位于所述电光转换层底部的第二接触层,位于所述光电转换层顶部的第三接触层,位于所述光电转换层底部的第四接触层,其中,所述第二接触层和所述第四接触层对所述电光转换层发出的工作光线透明。

10.如权利要求9所述的半导体直流变压器,其特征在于,所述第二接触层和第四接触层为重掺半导体材料、透明导电氧化物、石墨烯中的一种及其组合。

11.如权利要求10所述的半导体直流变压器,其特征在于,还包括:

位于所述电光转换层顶部的反射层;

位于所述光电转换层顶部的反射层。

12.如权利要求5所述的半导体直流变压器,其特征在于,还包括:

位于所述电光转换层两侧的第五接触层;和

位于所述光电转换层两侧的第六接触层。

13.如权利要求12所述的半导体直流变压器,其特征在于,还包括:

位于所述电光转换层顶部的反射层;

位于所述电光转换层顶部的反射层。

14.如权利要求1-4中任一项所述的半导体直流变压器,其特征在于,还包括:

衬底层,

其中,所述多个半导体光电转换结构和多个半导体电光转换结构形成在所述衬底层之上,且所述多个半导体光电转换结构具有光电转换层,所述多个半导体电光转换结构具有电光转换层,其中,所述多个半导体光电转换结构和多个半导体电光转换结构之间填充有绝缘透明介质。

15.如权利要求14所述的半导体直流变压器,其特征在于,所述衬底层底部具有三角形反射结构。

16.如权利要求14所述的半导体直流变压器,其特征在于,还包括:

位于所述电光转换层顶部的第七接触层、位于所述电光转换层底部的第八接触层、位于所述光电转换层顶部的第九接触层,以及位于所述光电转换层底部的第十接触层,其中,所述第八接触层与第十接触层对所述电光转换层发出的工作光线透明。

17.如权利要求16所述的半导体直流变压器,其特征在于,所述第八接触层与第十接触层为重掺半导体材料、透明导电氧化物、石墨烯中的一种及其组合。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于郭磊,未经郭磊许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210020018.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top