[发明专利]透射率测定装置和透射率测定方法

说明书

技术领域

本发明涉及对具有透射光的区域的测定对象的透射率进行测定的透射率测定装置和透射率测定方法。

背景技术

在液晶面板等电子部件的制造工序中，为了通过削减掩模数量来实现低成本化，使用在现有的单色图案中追加至少一层半透射膜图案的所谓的多色调光掩模(参照日本特开2009-258250号公报(以下记为专利文献1))。在控制这种半透射膜图案的透射率时，对多色调光掩模的品质进行管理是很重要的。因此，在多色调光掩模的品质管理中，利用与实际构图的半透射膜相同的成分制作基准掩模，测定透射率，作为半透射膜图案的透射率进行评价。

在特许4358848号公报(以下记为专利文献2)中记载了对取样的特定区域(滤色器的像素)的透射率进行实测的透射率测定方法。在专利文献2所记载的透射率测定方法中，将被检光会聚在取样的测定对象区域，测定其透射光强度，根据测定强度计算该区域的透射率。

但是，半透射膜图案复杂且细微地形成在具有大面积的透明基板上，所以难以制造成均一的透射率，可能有时与基准掩模的透射率不一致。并且，仅形成有半透射膜的阶段中的光透射率、和经过多个工艺而成为实施了构图后的光掩模完成品时的光透射率有时不是同一透射率。因此，在对光掩模进行管理时，优选与周边图案无关地对在光掩模上的任意位置形成的半透射膜图案的透射率进行实测。

对上述专利文献2所记载的透射率测定方法进行改良并发展，认为如果实施使被检光会聚在多色调光掩模上的方法，则能够对细微的半透射膜图案的透射率进行实测。例如，认为当使被检光会聚在半透射膜图案上并利用光检测器检测其透射光时，能够不受周围图案的透射率的影响而测定细微的半透射膜图案的透射率。

但是，在实施了上述透射率测定方法的情况下，在光检测器中，假设不仅检测到直接透射过多色调光掩模的直接光，还混合存在有透明基板的内部反射光，该内部反射光也被检测到。内部反射光被定义为，在射出透明基板时产生的内部反射成分在透明基板的转印图案形成面再次进行内部反射后射出透明基板的光。在内部反射光中还包含有多次重复进行透明基板的射出面和转印图案形成面的内部反射的多重反射光。

转印图案形成面中的反射率依赖于转印图案形成面上描绘的图案而变化。当上述反射率变化时，由光检测器检测到的检测光量也变化。即，使用光检测器测定的半透射膜图案的透射率依赖于转印图案形成面上的图案而变化，所以难以准确地进行测定。

发明内容

本发明是鉴于上述情况而完成的，其目的在于，提供能够抑制由于内部反射光而导致的误差并高精度地对测定对象区域的透射率进行测定的优选的透射率测定装置。

解决上述课题的本发明的一个方式的透射率测定装置的特征在于，该透射率测定装置具有：光源装置，其射出被检光；第一光学系统，其会聚该被检光并在测定对象上形成点；第二光学系统，其对透射过测定对象的被检光进行会聚，形成点的共轭像；光圈，其配置在共轭像的形成位置附近；以及光检测单元，其对透射过光圈的被检光进行检测。

根据本发明，能够通过光圈大致切断被检光透射测定对象时产生的内部反射光，并将不进行内部反射而透射过测定对象的直接光没有遗漏地导向光检测单元。实质上抑制了依赖于测定对象上的图案的透射率的变化，所以例如能够高精度地进行细微的半透射膜图案的透射率测定。即，根据本发明，提供能够抑制由于内部反射光而导致的误差并高精度地对测定对象区域的透射率进行测定的优选的透射率测定装置。

为了对透射直接光的功能和遮断内部反射光的功能进行补充，光圈的开口直径可以为共轭像的直径以上、并且小于被检光透射测定对象时产生的内部反射光在该光圈位置处的光束直径。

为了更加良好地发挥透射直接光的功能和遮断内部反射光的功能，光圈可以具有处于共轭像的直径的2～400倍的范围内的开口直径。

为了在测定对象上形成微小的点，光源装置可以构成为射出特定波长的光。

并且，在本发明的一个方式的透射率测定方法中，光掩模在透明基板上至少具有对半透射膜进行构图而得到的半透射图案，该光掩模的透射率测定方法包含如下方法：使用上述透射率测定装置测定半透射图案的透射率。

作为本发明的测定对象的光掩模通过在透明基板上具有对半透射膜进行构图而得到的半透射图案和对遮光膜进行构图而得到的遮光膜图案，成为具有透光部、遮光部和半透射部的多色调光掩模。

附图说明

图1是示出本发明的实施方式的透射率测定装置的结构的框图。

图2是示出本发明的实施方式的透射率测定装置的结构的框图。