[发明专利]表面清洁装置与表面清洁方法

权利要求书

1.一种表面清洁装置，包括：

一基板定位装置，用以固定一待处理表面；

一扫拂装置，用以对所述待处理表面作连续的扫拂；

一移动装置，用以使所述待处理表面与所述扫拂装置作相对运动；及

一流体清洁材料供应装置，用以将一流体清洁材料供应到所述扫拂装置的扫拂表面，以移除所述待处理表面上的部分材料；

其中，所述流体清洁材料包括一可流动载体以及至少一种高硬度材料颗粒。

2.如权利要求1的表面清洁装置，其中，所述基板定位装置为一真空吸盘。

3.如权利要求1的表面清洁装置，其中，所述移动装置将所述待处理表面移动到所述扫拂装置的扫拂表面。

4.如权利要求1的表面清洁装置，其中，所述移动装置将所述扫拂装置的扫拂表面移动到待处理表面。

5.如权利要求3或4项的表面清洁装置，其中，所述移动装置还使所述待处理表面与所述扫拂装置两者作相对运动。

6.如权利要求1的表面清洁装置，其中，所述扫拂装置是选自下列当中之一：转动型扫拂装置，平面型扫拂装置及旋转型扫拂装置。

7.如权利要求1的表面清洁装置，其中，所述扫拂材料为具有相当长度的软质条状材料或轮状材料。

8.如权利要求7的表面清洁装置，其中，所述扫拂材料为不织布。

9.如权利要求1的表面清洁装置，其中，所述流体清洁材料供应装置是一可控制流体供应量的装置。

10.如权利要求1的表面清洁装置，其中，所述流体清洁材料的可流动载体为一种液体或一种黏稠性物体。

11.如权利要求10的表面清洁装置，其中，所述流体清洁材料为水。

12.如权利要求1的表面清洁装置，其中，所述高硬度材料颗粒为硬度在8或以上，颗粒尺寸在#500与#1500之间的材料。

13.如权利要求12的表面清洁装置，其中，所述高硬度材料颗粒为碳化硅。

14.如权利要求1的表面清洁装置，其中，所述高硬度材料颗粒与所述可流动载体的比例在10g/l与50g/l之间。

15.如权利要求14的表面清洁装置，其中，所述高硬度材料颗粒与所述可流动载体的比例在15g/l与25g/l之间。

16.如权利要求1的表面清洁装置，还包括一清洗装置，用来清洗已经移除了待处理材料的待处理表面。

17.如权利要求1的表面清洁装置，还包括一干燥装置，用来将处理后或清洗后的待处理表面作干燥处理。

18.如权利要求1的表面清洁装置，还包括一回收装置，用来回收使用过的流体清洁材料。

19.一种表面清洁方法，包括下列步骤：

固定一待处理表面；

对所述待处理表面施加一流体清洁材料；及

在施加流体清洁材料的同时以一扫拂材料连续扫拂所述待处理表面：

其中，所述流体清洁材料包括一可流动载体以及至少一种高硬度材料颗粒。

20.如权利要求19的表面清洁方法，还包括使所述待处理表面与所述扫拂材料的扫拂表面作相对运动的步骤。

21.如权利要求20的表面清洁方法，其中，所述待处理表面以一移动定位装置加以固定，以将所述待处理表面固定后移动，以与所述扫拂材料的扫拂表面作相对运动。

22.如权利要求20的表面清洁方法，其中，所述相对运动是利用：移动所述待处理表面的方式、移动所述扫拂材料的方式，及同时移动所述待处理表面与所述扫拂材料的方式中的任一种方式来实施。

23.如权利要求19的表面清洁方法，其中，所述扫拂材料以转动扫拂、平面扫拂及旋转扫拂中的至少一种方法扫拂所述待处理表面。

24.如权利要求19项的表面清洁方法，还包括一清洗已清洁的待处理表面的步骤。

25.如权利要求19的表面清洁方法，还包括一干燥待处理表面及其它表面的步骤。