[发明专利]基于纳米银焊膏连接芯片的DBC基板表面处理工艺有效

专利信息
申请号: 201210023335.6 申请日: 2012-02-02
公开(公告)号: CN102560488A 公开(公告)日: 2012-07-11
发明(设计)人: 徐连勇;陈露;陆国权;荆洪阳;韩永典 申请(专利权)人: 天津大学
主分类号: C23C28/02 分类号: C23C28/02;C25D7/12;C23C14/35;C23C14/16;H01L21/48
代理公司: 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 代理人: 叶青
地址: 300072*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 基于 纳米 银焊膏 连接 芯片 dbc 表面 处理 工艺
【权利要求书】:

1.一种基于纳米银焊膏连接芯片的DBC基板表面处理工艺,其特征在于,该工艺按照以下步骤进行:

a.对DBC基板表面进行清洗预处理;

b.对预处理后的DBC基板采用电化学方法进行电镀镍处理,所述镍电镀液由以下配方组成:硫酸镍250~350g/L、氯化镍40~50g/L、硼酸35~45g/L,于50~60℃温度下保持15~25mA/cm2的阴极电流密度5~10min,阴极和阳极面积比为1∶1,电镀过程中对镍电镀液进行搅拌;

c.对电镀镍后的DBC基板表面采用磁控溅射法做镀银处理:

(1)对电镀镍后DBC基板使用流水清洗;

(2)用无水乙醇进行超声波清洗DBC基板;

(3)吹干;

(4)将吹干后的DBC基板放入超高真空磁控与离子束清洗镀膜设备中,并对超高真空磁控与离子束清洗镀膜设备抽真空;

(5)使用离子枪对吹干备用的DBC基板的表面进行离子清洗,束流为4~6ml,放电电压为40~60V,灯丝电流约为7~8A,加速电压约为80~120V,束流电压约为400~600V,清洗时间3~5min;

(6)对离子清洗后的DBC基板表面进行磁控溅射银,氩气流量为25~35ml,起辉时气压为1~3Pa,磁控溅射银时压强维持在0.2~0.4Pa,直流溅射功率为(0.1~0.2)A×(0.1~0.3)KV,溅射时间15~20min。

2.根据权利要求1所述的一种基于纳米银焊膏连接芯片的DBC基板表面处理工艺,其特征在于,所述步骤(a)的清洗预处理,按照如下步骤进行:

(1)对DBC基板使用10%氢氧化钠溶液清洗20~40s;

(2)流水清洗干净;

(3)使用稀硝酸溶液对DBC基板进行钝化处理;

(4)DBC基板表面露出铜晶粒后,流水清洗干净;

(5)对DBC基板使用稀盐酸溶液清洗20~40s;

(6)流水清洗干净;

(7)用去离子水清洗;

(8)用滤纸吸去DBC基板表面的去离子水。

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