[发明专利]建筑陶瓷和石材产品生产过程中的烧洁防污方法及设备有效
申请号: | 201210023844.9 | 申请日: | 2012-02-02 |
公开(公告)号: | CN102557731A | 公开(公告)日: | 2012-07-11 |
发明(设计)人: | 全任茂;莫浩文 | 申请(专利权)人: | 佛山市纳德精工科技有限公司 |
主分类号: | C04B41/85 | 分类号: | C04B41/85;C04B41/50;B24B29/02 |
代理公司: | 广州市越秀区哲力专利商标事务所(普通合伙) 44288 | 代理人: | 贺红星 |
地址: | 528000 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 建筑 陶瓷 石材 产品 生产过程 中的 防污 方法 设备 | ||
1.建筑陶瓷和石材产品生产过程中的烧洁防污方法,其特征在于包括以下步骤:
1)将砖体表面清洁干净并干燥;
2)将第一液态活性纳米填料打磨挤压进砖体表面的微孔中;
3)清扫砖体表面残留的第一液态活性纳米填料;
4)将第二液态活性纳米填料打磨挤压进砖体表面的微孔中;
5)清扫砖体表面残留的第二液态活性纳米填料;
6)将砖体送入电热窑炉加热烧洁;
7)出电热窑炉,冷却;
其中,所述第一液态活性纳米填料按质量百分比计含有纳米级的氟材料3~6%、有机硅3~6%、二氧化硅15~25%、有机溶剂65~75%;所述第二液态活性纳米填料为助剂。
2.如权利要求1所述的建筑陶瓷和石材产品生产过程中的烧洁防污方法,其特征在于还包括增光处理步骤,具体方法是:砖体清洗后,先将第三液态活性纳米填料打磨挤压进砖体表面的微孔中,清扫、干燥,所述第三液态活性纳米填料为氨基硅油,接着用抛光机对砖体表面进行抛光。
3.如权利要求1所述的建筑陶瓷和石材产品生产过程中的烧洁防污处理方法,其特征在于:所述第一液态活性纳米填料按质量百分比计含有氟材料5%、有机硅5%、二氧化硅20%、有机溶剂70%。
4.如权利要求1所述的建筑陶瓷和石材产品生产过程中的烧洁防污方法,其特征在于:步骤6)中的电热窑炉采用紫外线加热。
5.如权利要求1所述的建筑陶瓷和石材产品生产过程中的烧洁防污方法,其特征在于:步骤6)中电热窑炉内的温度为30~200℃, 砖体在电热窑炉内加热3-15s。
6.如权利要求1或2所述的建筑陶瓷和石材产品生产过程中的烧洁防污方法,其特征在于:第一、二、三液态活性纳米填料通过抛光机打磨挤压进砖体表面的微孔中。
7.一种建筑陶瓷和石材产品生产加工用的抛光机,其包括机架、设置在机架上的传动带、设置在传动带上方的磨头、固定在磨头上端的主轴、与主轴联接的磨头电机,其特征在于:该抛光机还包括储料罐、与储料罐连接的输液管、横向设置在机架上的布料辊组件、与输液管连通的出水口,所述出水口位于布料辊组件的上方,所述布料辊组件包括枢接在机架上的主动布料辊、枢接在机架上的从动布料辊,主动布料辊的弧面与从动布料辊的弧面相切。
8.如权利要求7所述的建筑陶瓷和石材产品生产加工用的抛光机,其特征在于:该抛光机还包括与输液管连通的分水管,所述出水口设置在分水管上。
9.如权利要求7所述的建筑陶瓷和石材产品生产加工用的抛光机,其特征在于:该抛光机还包括横梁、分别设置在机架两端的固定座,横梁滑动连接在固定座上并相对固定座前后滑动;横梁上还固定有气缸,气缸的活塞杆与主轴连接。
10.如权利要求7所述的建筑陶瓷和石材产品生产加工用的抛光机,其特征在于:所述机架的两端分别枢接有主动滚筒、从动滚筒,机架上还设置有传动电机,传动电机的输出轴与主动滚筒联接,所述传动带绕设在主动滚筒和从动滚筒上。
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