[发明专利]一种新型高透高雾度易清洗扩散板及其制备方法

权利要求书

1.一种新型高透高雾度易清洁扩散板，其特征在于：该扩散板板体为含有光扩散粒子的透明高分子材料，并且扩散板板体单面或双面具有宽光谱抗反射易清洁仿生纳米结构。

2.如权利要求1所述的新型高透高雾度易清洁扩散板，其特征在于所述光扩散粒子的透明高分子材料选用热塑性光学材料：聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、聚苯乙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚丙烯酸酯、苯乙烯-丙烯腈共聚物、乙烯-四氟乙烯共聚物、聚4-甲基-1-戊烯；或热固性光学材料：CR-39透明环氧树脂。

3.如权利要求1所述的新型高透高雾度易清洁扩散板，其特征在于所述光扩散粒子的平均粒径在200nm～500μm，成分为无机或有机粒子材料：氧化硅、二氧化硅、二氧化钛、碳酸钙、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物、苯乙烯-四氟乙烯共聚物中的一种或几种。

4.如权利要求1所述的新型高透高雾度易清洁扩散板，其特征在于所述含有光扩散粒子的透明高分子材料的制备方法为：在熔融状态下的透明高分子材料中掺入质量分数为2％～20％的光扩散粒子，熔融状态下经由押出机挤出冷却成型为扩散板。

5.如权利要求1所述的新型高透高雾度易清洁扩散板，其特征在于所述宽光谱抗反射易清洁仿生纳米结构是由三维渐变纳米突起阵列或孔道单元阵列构成，该三维渐变纳米突起阵列或孔道结构单元尺寸均匀，中轴线与基面垂直，尺寸自下而上逐渐变大或变小，与所述扩散板板体接触的底端直径在50nm～500nm，高度为50nm～12μm，该仿生纳米结构的折射率从基底折射率到空气折射率渐变。

6.如权利要求1或5所述的新型高透高雾度易清洁扩散板，其特征在于所述宽光谱抗反射易清洁仿生纳米结构的组成成分为与所述扩散板板体同种材质的透明高分子材料。

7.一种宽光谱抗反射易清洁仿生纳米结构的制备方法，其特征在于：在具有三维渐变纳米突起阵列或孔道单元阵列结构的模板内填充与基板同种材质的高分子材料、高分子材料单体、高分子前躯体和高分子溶液中的任意一种，使高分子材料填充复形或固化，经去除模板后获得该宽光谱抗反射易清洁仿生纳米结构。

8.如权利7所述的宽光谱抗反射易清洁仿生纳米结构的制备方法，其特征在于：所述采用的模板是指具有倒锥型纳米孔洞阵列的氧化铝模板、金属镍模板或含氟聚合物模板。