[发明专利]能克服头发障碍的阵列式柔性脑电干电极及其制备方法

权利要求书

1.一种能克服头发障碍的阵列式柔性脑电干电极，用于脑电信号的采集，其特征在于，所述柔性脑电干电极包括底座以及底座上伸出的呈阵列式的触角，其表面具有一层导电金属薄膜，所述触角可以插入头发，达到皮肤的生发层进行脑电信号的采集。

2.根据权利要求1所述的能克服头发障碍的阵列式柔性脑电干电极，其特征在于，所述的柔性脑电干电极采用具有生物相容性聚合物材料聚二甲基硅氧烷制成。

3.根据权利要求1所述的能克服头发障碍的阵列式柔性脑电干电极，其特征在于，所述的柔性脑电干电极表面的导电金属薄膜是通过MEMS(微机电系统)工艺处理得到。

4.一种制备权利要求1至3所述的柔性脑电干电极的方法，其特征在于，包括步骤如下：

1)利用机械加工的方法制作柔性干电极模具；

2)将聚合物材料通过预处理后浇铸在柔性干电极模具内，经过烘箱热处理后形成预处理柔性干电极；

3)在预处理柔性干电极表面溅射一层导电金属薄膜，即可得到具有导电性能的柔性脑电干电极。

5.根据权利要求4所述的柔性脑电干电极的制备方法，其特征在于，所述柔性干电极模具包括上模座，中模座以及下模座。

6.根据权利要求5所述的柔性脑电干电极的制备方法，其特征在于，所述上模座呈环状，环形内圆利用镗刀加工，内圆直径决定柔性脑电干电极底座的大小，高度决定柔性干电极底座的厚度。

7.根据权利要求5所述的柔性脑电干电极的制备方法，其特征在于，所述中模座呈阵列形状的通孔，通孔利用钻床加工，孔的直径决定柔性干电极的触角的大小，高度决定柔性干电极触角的长度。

8.根据权利要求5所述的柔性脑电干电极的制备方法，其特征在于，所述下模座具有和中模座相同阵列形状和数量的圆孔，下模座的圆孔为盲孔。

9.根据权利要求4所述的柔性脑电干电极的制备方法，其特征在于，所述 聚合物材料预处理是将预聚合的聚二甲基硅氧烷与固化剂质量比10∶1搅拌混合后抽去气泡。

10.根据权利要求4所述的柔性脑电干电极的制备方法，其特征在于，所述的烘箱热处理是指在烘箱中70℃热处理2小时。