[发明专利]用于化学机械抛光的互穿网络

权利要求书

1.一种用于抛光选自磁性基材、光学基材和半导体基材中的至少一种的基材的化学机械抛光垫，所述抛光垫包括：

包括互穿网络的抛光层，

其中所述互穿网络含有连续的耐久性相和基本上共-连续的不稳定性相；

其中所述连续的耐久性相与所述共-连续的不稳定性相非共价连接，

其中所述耐久性相形成一个三维网络，该三维网络含有多个相互连接的抛光元件，这些抛光元件限定网络状的孔隙区域；

所述连续的耐久性相包含多个六面体单元室，所述单元室包括多个相互连接的抛光元件，所述抛光元件限定出网络状的孔隙区域；

其中各个六面体单元室包括六个面，其中各个面是正方形的或长方形的；

其中所述基本上共-连续的不稳定性相被安排在所述网络状的孔隙区域中；

其中所述抛光表面适合抛光所述基材。

2.如权利要求1所述的化学机械抛光垫，其特征在于，所述化学机械抛光垫包括紧邻抛光表面的流体动力区，其中所述流体动力区基本上不含不稳定性相。

3.如权利要求2所述的化学机械抛光垫，其特征在于，所述流体动力区从抛光表面延伸入化学机械抛光垫的深度为1至100微米。

4.如权利要求1所述的化学机械抛光垫，其特征在于，所述抛光层含有0.5至80体积％的连续的耐久性相。

5.如权利要求1所述的化学机械抛光垫，其特征在于，所述连续的耐久性相是非水溶性的，并且所述共-连续的不稳定性相是水溶性的。

6.一种抛光基材的方法，该方法包括：

提供选自磁性基材、光学基材和半导体基材中的至少一种的基材；

提供化学机械抛光垫，该抛光垫包括含有互穿网络的抛光层，其中所述互穿网络含有连续的耐久性相和基本上共-连续的不稳定性相；其中所述连续的耐久性相与所述共-连续的不稳定性相非共价连接，其中所述连续的耐久性相形成一个三维网络，该三维网络含有多个六面体单元室，所述单元室包括多个相互连接的抛光元件，所述抛光元件限定出网络状的孔隙区域；其中各个六面体单元室包括六个面，其中各个面是正方形的或长方形的；其中所述抛光层具有适合抛光所述基材的抛光表面；

在所述抛光表面和基材的界面处提供抛光介质；

使化学机械抛光垫和基材在界面处发生动态接触。