[发明专利]降低透镜加热效应的方法以及提升透镜的成像性能的方法有效

专利信息
申请号: 201210031555.3 申请日: 2012-02-13
公开(公告)号: CN102736436A 公开(公告)日: 2012-10-17
发明(设计)人: 周建明;史考特·莱特;丹·米尔沃德;何元;卡弗里·詹;勾力晶;张自淑;安东·德维利尔斯;麦可·凯悦 申请(专利权)人: 南亚科技股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 代理人: 江耀纯
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 降低 透镜 加热 效应 方法 以及 提升 成像 性能
【权利要求书】:

1.一种降低一透镜于一成像程序中的透镜加热效应的方法,其特征是,包含有:

依据一照明源与一光掩膜设计来决定所述透镜上多个热负载位置;

依据所述多个热负载位置来得到一透镜响应特性;

利用所述多个热负载位置与所述透镜响应特性来产生一透镜加热敏感地图;以及

利用所述透镜加热敏感地图来置放至少一附加极点于所述透镜上的一特定位置,其中所述附加极点会产生一个用来降低透镜加热效应的绕射图谱。

2.如权利要求1所述的方法,其特征是,得到所述透镜响应特性的步骤包含:

解出至少一查涅克多项式,其中所解出的所述查涅克多项式连同所述多个热负载位置来一并使用,以产生所述透镜加热敏感地图。

3.如权利要求1所述的方法,其特征是,所述附加极点位于所述透镜的光瞳-光阑区之内。

4.如权利要求1所述的方法,其特征是,所述附加极点位于所述透镜的光瞳-光阑区之外。

5.如权利要求2所述的方法,其特征是,依据所述多个热负载位置以解出所述至少一查涅克多项式来得到所述透镜响应特性的步骤包含:

依据所述多个热负载位置来解出所述查涅克多项式,以决定出由所述照明源所产生的多个绕射图谱;

其中所述附加极点被置放于所述光瞳中的所述特定位置,使得由所述附加极点所产生的多个绕射图谱得以降低由所述照明源所产生的所述多个绕射图谱所造成的透镜加热效应。

6.如权利要求5所述的方法,其特征是,由所述照明源所产生的所述多个绕射图谱由所述透镜中对热没有响应的一点来决定。

7.一种降低一透镜于一成像程序中的透镜加热效应的方法,其特征是,包含有:

依据一照明源与一光掩膜设计来决定所述透镜上多个热负载位置;

依据所述多个热负载位置来得到一透镜响应特性;

利用所述多个热负载位置与所述透镜响应特性来产生一透镜加热敏感地图;以及

利用所述透镜加热敏感地图来改变所述照明源的形状,使得由所述照明源所产生的多个绕射图谱会落在所述透镜加热敏感地图所标示的一光瞳的多个敏感区之外。

8.如权利要求7所述的方法,其特征是,得到所述透镜响应特性的步骤包含:

解出至少一查涅克多项式,其中所解出的所述查涅克多项式连同所述多个热负载位置来一并使用,以产生所述透镜加热敏感地图。

9.如权利要求7所述的方法,其特征是,所改变的所述照明源为一虎眼照明。

10.如权利要求7所述的方法,其特征是,由所述照明源所产生的所述多个绕射图谱由所述透镜中对热没有响应的一点来决定。

11.一种提升一成像程序中所使用的一透镜的成像性能的方法,其特征是,包含有:

选取要被使用于所述成像程序的一光源光掩膜;

依据一照明源与一光掩膜设计来决定所述透镜上多个热负载位置;

依据所述多个热负载位置来得到一透镜响应特性;

利用所述多个热负载位置与所述透镜响应特性来产生一透镜加热敏感地图;

依据所述透镜加热敏感地图来决定一成像与透镜加热性能;以及

当所述成像与透镜加热性能不理想时,修改所述光源光掩膜及/或所述照明源以及提升所述成像与透镜加热性能。

12.如权利要求11所述的方法,其特征是,得到所述透镜响应特性的步骤包含:

解出至少一查涅克多项式,其特征是,所解出的所述查涅克多项式连同所述多个热负载位置一并使用,以产生所述透镜加热敏感地图。

13.如权利要求11所述的方法,其特征是,修改所述光源光掩膜及/或所述照明源包含:

利用所述透镜加热敏感地图来改变所述照明源的形状。

14.如权利要求11所述的方法,其特征是,修改所述光源光掩膜及/或所述照明源包含:

利用所述透镜加热敏感地图来置放至少一附加极点于所述透镜上的一特定位置。

15.如权利要求14所述的方法,其特征是,所述附加极点位于所述透镜的光瞳-光阑区之内。

16.如权利要求14所述的方法,其特征是,所述附加极点位于所述透镜的光瞳-光阑区之外。

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