[发明专利]一种静电保护膜、显示装置和静电保护膜的制备方法

权利要求书

1.一种静电保护膜，其特征在于包括：一层透明导电的基体和一层石墨烯；

所述基体材料和所述石墨烯粘贴在一起。

2.根据权利要求1所述的静电保护膜，其特征在于，所述石墨烯的厚度范围在20-200nm之间。

3.根据权利要求1或2所述的静电保护膜，其特征在于，所述基体的材料包括如下之一：聚乙烯、聚丙烯、聚碳酸酯、聚氯乙烯、聚酰亚胺、环氧树脂、酚醛树脂、聚对苯二甲酸乙二醇酯PET和橡胶；

所述基体的厚度范围在50-1000nm之间。

4.一种显示装置，其特征在于，包括上述的任一静电保护膜。

5.一种静电保护膜的制备方法，其特征在于包括：

将基体清洗干净；

在所述基体上制备一层石墨烯。

6.根据权利要求5所述的静电保护膜的制备方法，其特征在于，所述在所述基体上制备一层石墨烯包括：

将金属片放置在含碳气体的腔体内；

在预设温度将所述含碳气体裂解，以在所述金属片上固定贴附一层石墨烯；

将上述固定贴附的金属片和石墨烯粘贴在所述基体上，所述石墨烯与所述基体粘贴；

将所述金属片刻蚀去除，以得到静电保护膜。

7.根据权利要求6所述的静电保护膜的制备方法，其特征在于，所述预设温度的范围为600-1000℃之间；

所述含碳气体包括气体中的至少一种：一氧化碳、乙烷、乙烯、乙醇、乙炔、丙烷、丁二烯、环戊二烯、苯和甲苯。

8.根据权利要求6所述的静电保护膜的制备方法，其特征在于，所述将所述金属片刻蚀去除包括：

利用酸性溶液刻蚀去除所述金属；

所述酸性溶液包括盐酸、硫酸或醋酸。

9.根据权利要求5所述的静电保护膜的制备方法，其特征在于，所述在所述基体上制备一层石墨烯包括：

将氧化石墨烯粉末涂覆在所述基体表面；

利用还原剂将所述石墨烯粉末还原为石墨烯；

所述还原剂包括肼、水合肼、硼氢化钠或卤酸。

10.根据权利要求9所述的静电保护膜的制备方法，其特征在于，所述将氧化石墨烯粉末涂覆在所述基体表面包括：

将所述氧化石墨烯粉末溶于水中，氧化石墨烯水溶液的浓度在0.1～10mg/ml之间；

对上述氧化石墨烯水溶液进行超声波处理。