[发明专利]光刻设备和光刻投影方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种光刻设备和一种光刻投影方法。

背景技术

光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上，通常是衬底的目标部分上的机器。例如，可以将光刻设备用在集成电路(ICs)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成在所述IC的单层上待形成的电路图案。可以将该图案转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或多个管芯)上。通常，图案的转移是通过把图案成像到提供到衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上进行的。通常，单独的衬底将包含被连续形成图案的相邻目标部分的网络。公知的光刻设备包括：所谓的步进机，在步进机中，通过将全部图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一个目标部分；和所谓的扫描器，在所述扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描所述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向同步地扫描所述衬底来辐射每一个目标部分。也可能通过将图案压印(imprinting)到衬底上的方式从图案形成装置将图案转移到衬底上。

为了尽可能有效地使用光刻设备，期望实现光刻设备的高产出，使得在最短的可能时间内处理大量的衬底。

在扫描型光刻设备的扫描模式中，衬底台与衬底台扫描移动(即跨经投影系统采用基本上恒定的速度的移动)一起移动。在衬底台扫描移动的同时，支撑图案形成装置的支撑结构也与扫描移动(即跨经投影系统采用基本上恒定的速度的移动)一起扫描，以在光刻设备的辐射束上赋予图案。因为在投影期间图案形成装置的支撑结构从起始位置移动至结束位置，图案形成装置支撑结构必须在图案形成装置支撑结构准备在相同方向上的新的扫描移动之前移回起始位置。

因此，光刻设备可以配置成在衬底上实施衬底台扫描移动的曲折图案。随后，图案形成装置支撑结构的随后的扫描移动可以沿相反的方向，因为随后的衬底扫描移动的方向也可以沿相反的方向。对于每次衬底台扫描移动，衬底台必须减速和加速以获得想要的速度和方向。这样减速和加速至基本上恒定的速度会花费相当多的时间。

在替代的扫描轨迹中，衬底台扫描移动被执行为跨经在衬底上(例如衬底的长度上)以行或列布置的多个管芯，同时图案化辐射束仅投影到一部分管芯上。例如，在单次衬底台扫描移动期间图案化辐射束仅投影到管芯的列或行的奇数位置处的管芯上。用于通过位于偶数位置处的管芯所需的时间用于将图案形成装置支撑结构从结束位置移回至起始位置。

发明内容

期望提供一种光刻设备和可以具有在衬底上的衬底台扫描移动的有效图案的光刻投影方法。

根据本发明的一个实施例，提供一种光刻设备，包括：照射系统，配置成调节辐射束；构造成支撑第一图案形成装置的第一支撑结构和构造成支撑第二图案形成装置的第二支撑结构，第一图案形成装置和第二图案形成装置能够在辐射束的横截面上赋予辐射束图案、以形成图案化辐射束；衬底台，构造成保持衬底；和投影系统，配置成将图案化辐射束投影到衬底的目标部分上，其中第一支撑结构和第二支撑结构在扫描方向上可以在沿扫描方向的第二图案形成装置或第一图案形成装置的至少长度的扫描距离上移动，其中第一支撑结构和第二支撑结构在第二方向上可以在沿第二方向的第二图案形成装置或第一图案形成装置的至少宽度的距离上移动，其中第二方向大体垂直于扫描方向，和其中光刻设备构造成通过第一支撑结构和/或第二支撑结构在第二方向上的移动来选择地将第一支撑结构或第二支撑结构与投影系统对准。

根据本发明一个实施例，提供一种使用扫描型光刻设备的光刻投影方法，所述光刻设备包括支撑第一图案形成装置的第一支撑结构和支撑第二图案形成装置的第二支撑结构，所述方法包括下列步骤：

用衬底台执行衬底台扫描移动，使得支撑在衬底台上的衬底的以行或列布置的管芯大体与投影系统对准，选择地使第一支撑结构和第二支撑结构与投影系统对准，在衬底台扫描移动期间在第一或第二支撑结构与投影系统对准的情况下执行扫描移动，以在辐射束的横截面上分别赋予辐射束第一图案形成装置或第二图案形成装置的图案，和在随后与投影系统对准的衬底的管芯上投影图案化辐射束。

附图说明

现在参照随附的示意性附图，仅以举例的方式，描述本发明的实施例，其中，在附图中相应的附图标记表示相应的部件，且其中：

图1示出了现有技术的光刻设备；

图2示出用于光刻设备中的现有技术中的扫描轨迹；

图3示出了根据本发明一个实施例的光刻设备；

图4a-4d示出根据本发明一个实施例的第一和第二图案形成装置支撑结构的组合的多种移动；