[发明专利]核岛反应堆基础底部压力灌浆装置、灌浆系统及灌浆方法

说明书

技术领域

本发明及一种灌浆装置，具体设计一种用于密闭空间压力灌浆的核岛反应堆基础底部压力灌浆装置；本发明还涉及一种由该灌浆装置构成的灌浆系统；本发明还涉及一种使用该灌浆系统对核岛反应堆基础底部压力灌浆的灌浆方法。

背景技术

当前灌浆技术广泛应用于石油、化工、电站、冶金、核电、国防等国民经济各个部门。随着施工技术的不断提高，对于灌浆的需求也加大了。为了提高灌浆的质量，提高灌浆设备的使用效率，对于灌浆料的配合比越来越严格。

目前国内的灌浆施工技术，在例如截面尺寸大于1.5M的设备基础以及碗状的结构底部难以施工密实的部位，一般存在以下问题：

(1)对于密闭空间灌浆料的密实性难以控制，灌浆质量无法直观反映；

(2)灌浆过程中，受灌浆压力影响，灌浆管随意摆动影响灌浆进度，和灌浆质量；

(3)灌浆过程中灌浆管容易拔出灌浆液面，外露在空气中，导致灌浆料中容易引入空气形成气泡，影响灌浆质量。

发明内容

本发明要解决的技术问题是真对现有技术中的不足之处，提供一种通过预埋灌浆管对基础进行灌浆，以满足灌浆要求，并通过灌浆液面高度的检测以控制这种区域的灌浆质量的灌浆装置，并提供由该灌浆装置构成的具有高速率、高质量的，能够将灌浆区域的灌浆料密实，不产生气泡孔洞，可广泛应用于大型设备基础底座灌浆施工的灌浆的系统以及灌浆方法。

为解决上述技术问题，本发明一种核岛反应堆基础底部压力灌浆装置，包括在基层面上设置的凹槽和置于该凹槽内的灌浆管，其特征在于：还包括并排均匀距离固定在基层面凹槽上的若干个灌浆管固定支架，所述灌浆管穿过该若干个灌浆管固定支架的内部；

所述每个灌浆管固定支架上固定有两个不接触的测量探头和一个LED灯，所述两个测试探头触头一端位于同一水平面上，该两个测试探头的另一端分别外接连接电源一端和所述LED灯一端，所述外接电源另一端与所述LED灯另一端连接。

所述凹槽深度大于等于5cm，宽度大于等于15cm。

所述灌浆管固定支架采用带有两支脚的“П”形结构，该灌浆管固定支架通过两支脚插入所述基层面凹槽两侧固定在基层面上，该灌浆管固定支架伸出基层面3-10cm。

一种由该灌浆装置构成的反应堆基础底部灌浆系统，其特征在于：在基层面上以“十”字形布置有第一灌浆装置、第二灌浆装置、第三灌浆装置和第四灌浆装置，该四个灌浆装置将基层面分割成四个扇形面；在所述四个扇形面上以“十”字形布置第五灌浆装置、第六灌浆装置、第七灌浆装置和第八灌浆装置，所述第五灌浆装置、第六灌浆装置、第七灌浆装置和第八灌浆装置的轴线分别位于所在扇形面的角平分线上。

所述第一灌浆装置和第三灌浆装置上各有六个灌浆管固定支架；第二灌浆装置和第四灌浆装置上各有五个灌浆管固定支架；第五灌浆装置、第六灌浆装置、第七灌浆装置和第八灌浆装置上各有四个灌浆管固定支架。

所述第一灌浆装置和第三灌浆装置上各自的六个灌浆管固定支架分别在自基层面中心处向外分布的L1、L2、L3、L4、L5、L6位置上；第二灌浆装置和第四灌浆装置上各自的五个灌浆管固定支架分别在自基层面中心处向外分布的L2、L3、L4、L5、L6位置上；第五灌浆装置、第六灌浆装置、第七灌浆装置和第八灌浆装置上各自的四个灌浆管固定支架分别在自基层面中心处向外分布的LL1、LL2、LL3、LL4位置上。

所述L1位置在以基层面3中心为圆心，150cm为半径的圆上；L2位置在与L1位置所在圆距离150cm的同心圆上；L3位置在与L2位置所在圆距离150cm的同心圆上；L4位置在与L3位置所在圆距离150cm的同心圆上；L5位置在与L4位置所在圆距离150cm的同心圆上、L6位置在与L5位置所在圆距离150cm的同心圆上；

LL1位置在以基层面3中心为圆心，950cm为半径的圆上；LL2位置在在与LL1位置所在圆距离50cm的同心圆上；LL3位置在在与LL2位置所在圆距离50cm的同心圆上；LL4位置在在与LL3位置所在圆距离50cm的同心圆上。

一种反应堆基础底部灌浆控制方法，其特征在于：包括以下几个步骤，

步骤一、第一灌浆装置和第三灌浆装置的灌浆管同时在灌浆管出浆端距离该基层面中心100cm的位置开始灌浆；