[发明专利]旋转基板支撑件及其使用方法

权利要求书

1.一种用于处理基板的设备，包括：

处理室；

基板支撑件，该基板支撑件包括设置于该处理室中的轴部；

加热器，该加热器与该基板支撑件耦合；

第一马达，该第一马达提升与下降该基板支撑件；以及

第二马达，该第二马达向该基板支撑件提供旋转运动，其中该第一马达耦合至框架，该框架罩住该第二马达，该第二马达通过转子耦合至该轴部，以及包含多个密封件的密封块置于该转子周围。

2.如权利要求1所述的设备，其特征在于，该第二马达通过转子耦合至该基板支撑件。

3.如权利要求1所述的设备，其特征在于，该轴部被插入到该转子的开口中。

4.如权利要求1所述的设备，其特征在于，该第一马达和该第二马达通过马达支撑件耦合至该处理室的壁。

5.如权利要求4所述的设备，其特征在于，该密封块接触该马达支撑件和该转子。

6.如权利要求4所述的设备，其特征在于，该密封块与该马达支撑件的内表面和该转子的外表面形成密封。

7.如权利要求4所述的设备，其特征在于，该密封块具有至少一沿该密封块及该转子之间的接口而设置的通道。

8.一种用于处理基板的设备，包括：

处理室；

经加热的基板支撑件，该基板支撑件设置于该处理室中；以及

组件，该组件向该基板支撑件提供旋转运动，该组件包括升举机构以及第二马达，该升举机构包括提升和下降该基板支撑件的第一马达，该第二马达向该基板支撑件提供旋转运动，

其中，该第一马达耦合至罩住该第二马达的框架，该组件通过转子耦合至该基板支撑件的轴部，以及包含多个密封件的密封块置于该转子周围并与该转子接触。

9.如权利要求8所述的设备，其特征在于，加热器设置于该基板支撑件中。

10.如权利要求8所述的设备，其特征在于，该密封块包括至少一沿该密封块及该转子之间的接口而设置的通道。

11.一种用于处理基板的设备，包括：

处理室；

基板支撑件，该基板支撑件设置于该处理室中；

加热器，该加热器耦合至该基板支撑件；

伸缩部，该伸缩部连接至该处理室；

第一马达，该第一马达提升和下降该基板支撑件；

第二马达，该第二马达旋转该基板支撑件；以及

密封块，该密封块将该基板支撑件连接至该伸缩部。

12.如权利要求11所述的设备，其特征在于，该伸缩部具有与该密封块接触的安装板。

13.如权利要求11所述的设备，其特征在于，该设备还包括围住该第二马达的外罩。

14.如权利要求13所述的设备，其特征在于，该第一马达耦合至该外罩。

15.如权利要求11所述的设备，其特征在于，该设备还包括耦合至该基板支撑件的旋转接头。