[发明专利]具有抗反射涂层的基板和用于制造该基板的方法

权利要求书

1.经涂层的基板(3)，所述基板(3)

-在至少一侧上具有多层式的抗反射涂层(5)，所述抗反射涂层(5)

-由具有不同折射率的层来构造，其中，具有较高折射率的层和具有较低折射率的层交替，其中，

-所述具有较低折射率的层由具有铝份额的氧化硅来构造，在所述具有较低折射率的层中

-铝的材料量与硅的材料量的比例大于0.05、优选大于0.08，但硅的材料量相对于铝的材料量占优势，并且其中，

-所述具有较高折射率的层包含硅化物、氧化物或者氮化物。

2.根据前述权利要求所述的经涂层的基板，其特征在于，所述具有较高折射率的层由具有铝份额的氮化硅来构造，在所述具有较高折射率的层中

-铝的材料量与硅的材料量的比例大于0.05、优选大于0.08。

3.根据前述权利要求之一所述的经涂层的基板，其特征在于，所述抗反射涂层的表面通过具有较低折射率的、由具有铝份额的氧化硅所制成的层来形成。

4.根据前述权利要求之一所述的经涂层的基板，其特征在于，所述抗反射涂层具有在总共200纳米至400纳米的范围内的层厚度。

5.根据前述权利要求之一所述的经涂层的基板，其特征在于，所述抗反射涂层的表面具有如下的平均粗糙度和均方根粗糙度，所述平均粗糙度和均方根粗糙度关于一平方微米的面积分别为少于1.5纳米。

6.根据前述权利要求之一所述的经涂层的基板，其特征在于，所述抗反射涂层具有至少两层具有较高折射率的层和至少两层具有较低折射率的层。

7.根据前述权利要求所述的经涂层的基板，其特征在于一种具有由四个彼此跟随的层组成的层堆叠的抗反射涂层，其中，最下面的层是含氮化硅的较高折射的层，其中，另外那个含氮化硅的较高折射的、形成所述层堆叠的最上面的高折射层的层具有在所述层堆叠内部最大的层厚度，并且其中，所述层堆叠的最上面的层形成具有较低折射率的、由具有铝份额的氧化硅制成的层，并且具有在所述层堆叠的层中第二大的层厚度，并且其中，第一层和如所述最上面的层那样为具有较低折射率的由具有铝份额的氧化硅制成的层的第二层组合起来具有比所述最上面的层的层厚度更薄的层厚度。

8.根据前述权利要求所述的经涂层的基板，其中，在所述基板上沉积有含铝的氧化硅层，并且在所述含铝的氧化硅层上沉积有具有所述四个彼此跟随的层的所述层堆叠。

9.根据前述权利要求之一所述的经涂层的基板，其中，所述基板是玻璃板或者玻璃陶瓷板或者蓝宝石板、人造石英玻璃基板、晶体，尤其是用于光学目的的晶体，光学玻璃或者滤光玻璃。

10.根据前述权利要求之一所述的经涂层的基板，其特征在于，所述基板的弯曲的、尤其是呈透镜形的表面以所述抗反射涂层来进行涂层。

11.用于制造经涂层的基板的方法，其中，

-在所述基板的至少一侧上构造多层式的抗反射涂层，将所述抗反射涂层

-通过依次的沉积而由具有不同折射率的层来构造，其中，具有较高折射率的层和具有较低折射率的层交替，其中，

-将所述具有较低折射率的层由具有铝份额的氧化硅来构造，其中，

-铝的材料量与硅的材料量的比例大于0.05、优选大于0.08，但硅的材料量相对于铝的材料量占优势，并且其中，

-沉积含硅化物、氧化物或者氮化物的层作为具有较高折射率的层。

12.根据前述权利要求所述的方法，其特征在于，将所述抗反射涂层的层通过溅射来沉积。

13.根据前述权利要求所述的方法，其中，将所述抗反射涂层通过磁控溅射来沉积，其中，为了激励等离子体，应用脉冲场，其中，脉冲具有每平方厘米靶面积至少100瓦特的功率密度。

14.根据前述权利要求所述的方法，其特征在于，在所述脉冲之间的间歇中，维持所述等离子体。