[发明专利]液相等离子体电沉积制备多元碳化物薄膜的方法

权利要求书

1.一种液相等离子体电沉积制备多元碳化物薄膜材料的工艺方法，其特征是在液相电解质溶液和低温常压条件下，采用等离子体电沉积技术制备多元组分的碳化物薄膜。

2.根据权利要求1，其特征是多元碳化物（MxC）薄膜的组成可为金属元素、或半金属元素、或非金属元素。

3.根据权利要求2，其特征是多元碳化物（MxC）薄膜可为金属-碳化物薄膜，半金属-碳化物薄膜，非金属-碳化物薄膜，金属-半金属-碳化物薄膜，金属-非金属-碳化物薄膜。

4.根据权利要求1，其特征是多元碳化物薄膜可为二元碳化物膜，或三元碳化物膜，或多元碳化物膜。

5.根据权利要求1，其特征是液相电解质溶液为有机溶液或水溶液，待镀元素的前体为金属盐、金属有机化合物、有机金属化合物、有机物、无机物。

6.根据权利要求1，其特征是液相等离子体电沉积的极间电压根据电解液中待镀前体各组分被激化电离成等离子体所需电压的最高值来确定。

7.根据权利要求1，其特征是作为基体材料（阴极或阴极的衬底材料）可以是任一导电材料或带有导电层的材料，如铝合金、不锈钢、高速钢、硬质合金、钛合金、硅片、导电玻璃、导电塑料及其他金属或合金材料等。

8.根据权利要求1，其特征是阴阳极面积比为1：1~2，极间距为5mm~50 mm，优选极间距约为10mm~20mm。

9.根据权利要求1，其特征是在液相等离子体电沉积过程中电解液的温度保持在20℃~100℃，优选为50℃~70℃。

10.根据权利要求1，其特征是在液相等离子体电沉积过程中电流密度为10mA/cm² ~ 500mA/cm²。