[发明专利]匀光器及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201210046574.3 申请日: 2012-02-24
公开(公告)号: CN103293677A 公开(公告)日: 2013-09-11
发明(设计)人: 谢长青;翁永超;朱效立;高南;刘明 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: G02B27/09 分类号: G02B27/09;G02B5/18;G02B27/42;G03F7/20
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 逯长明;王宝筠
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 匀光器 及其 制作方法
【权利要求书】:

1.一种匀光器,为多个环带光子筛单元组成的阵列,其特征在于,所述环带光子筛单元包括波带片和所述波带片的不透光环带上随机分布的透光孔。

2.根据权利要求1所述的匀光器,其特征在于,所述阵列的大小不小于入射的光束的孔径。

3.根据权利要求1所述的匀光器,其特征在于,所述波带片的每一个环带的中心半径为rn、宽度为wn,其中,rn2=2nfλ+n2λ2,wn=λ/2rn,λ为入射光的波长,f为环带光子筛单元的焦距。

4.根据权利要求3所述的匀光器,其特征在于,所述透光孔的直径等于该透光孔所在环带的宽度。

5.根据权利要求1所述的匀光器,其特征在于,所述波带片由透光基底及其上覆盖的环带的不透光膜组成,透光孔为环带的不透光膜上的通孔。

6.一种匀光器的制造方法,其特征在于,包括:

提供透光衬底;

在所述透光衬底上覆盖不透光膜;

图案化所述不透光膜,以形成透光环带和不透光环带间隔组成的波带片以及所述不透光环带上随机分布的透光孔。

7.根据权利要求6所述的制造方法,其特征在于,所述不透光膜为不透光金属膜。

8.根据权利要求6所述的制造方法,其特征在于,采用接触式光刻法进行图案化。

9.根据权利要求6所述的制造方法,其特征在于,所述波带片的每一个环带的中心半径为rn、宽度为wn,其中,rn2=2nfλ+n2λ2,wn=λ/2rn,λ为入射光的波长,f为环带光子筛单元的焦距。

10.根据权利要求9所述的制造方法,其特征在于,所述透光孔的直径等于该透光孔所在环带的宽度。

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