[发明专利]光照射装置、光照射方法、金属卤化物灯

说明书

本申请以2011年10月24日申请的日本专利申请2011-232791为基础，要求该申请的优先权。本申请通过参照该申请而包括该申请的全部内容。

技术领域

本发明的实施方式涉及光照射装置、光照射方法以及金属卤化物灯，其用于例如制造液晶面板，用于对制造过程中的面板(被处理基板)照射规定波长的光。

背景技术

用于液晶面板制造的紫外线照射装置是用于向制造过程中的液晶面板照射该紫外线照射装置产生的紫外线、并使液晶面板制造中必要的密封剂(光硬化性树脂)硬化。密封剂含有光引发剂，并具有吸收规定波长的紫外线之后硬化的特性。

在这样的液晶面板的制造工序中，为了仅在密封剂的区域照射规定波长的紫外线，在除此之外的区域不照射该紫外线，一般在离开液晶面板的上方，设有形成为规定形状的遮光罩。这是因为照射紫外线会对除了密封剂区域的液晶面板区域照成损害。除了密封剂硬化这样特别的目的，应该尽可能避免紫外线的使用。又，遮光罩一般在维护上具有较大负担，妨碍液晶面板制造效率的提高。

[现有技术文献]

[专利文献1]特开平6-267509号公报

[专利文献2]特开2009-54460号公报

[专利文献3]特开2008-102197号公报

发明内容

本发明的目的在于，提供一种光照射装置、光照射方法以及金属卤化物灯，即使是没有遮光罩，也可以对面板不造成损害地向面板照射必要波长的光。

实施方式的光照射装置包括：金属卤化物灯、双层管、氧化膜。金属卤化物灯具有筒状、石英玻璃材料的发光管。双层管具有筒状、石英玻璃材料的作为第一管的内管和筒状、石英玻璃材料的作为第二管的外管，所述内管设于筒状地包围所述金属卤化物灯的所述发光管的位置，所述外管设于筒状地包围该内管的位置，该第一管和该第二管之间的空间是被封闭的空间，以使得在所述第一管和所述第二管之间的所述空间流体能够流通。氧化膜是在所述双层管的所述外管的外表面上、或者在所述双层管的所述内管的与所述金属卤化物灯相对的面上设置的、膜厚为0.4μm以上、1.0μm以下的、含有钛、硅、铋、和钽的膜。

又，另一实施方式的光照射装置包括：金属卤化物灯、双层管、氧化膜。金属卤化物灯具有筒状、石英玻璃材料的发光管。双层管具有筒状、石英玻璃材料的作为第一管的内管和筒状、石英玻璃材料的作为第二管的外管，所述内管设于筒状地包围所述金属卤化物灯的所述发光管的位置，所述外管设于筒状地包围该内管的位置，该第一管和该第二管之间的空间是被封闭的空间，以使得在所述第一管和所述第二管之间的所述空间流体能够流通。氧化膜是在所述双层管的所述外管的外表面上、或者在所述双层管的所述内管的与所述金属卤化物灯相对的面上设置的、膜厚为0.4μm以上、1.0μm以下的、含有钛、硅、铈、和钽的膜。

根据上述结构的光照射装置，即使没有遮光罩，也可以对面板不造成损害地向面板照射必要波长的光。

附图说明

图1是表示一实施方式的光照射装置的结构的纵截面图。

图2是图1中示出的A-Aa位置的箭头方向的截面图。

图3是表示图1中示出的金属卤化物灯的结构的纵截面图。

图4是表示将图3的图示部分放大的纵截面图。

图5是表示图1中所示的金属卤化物灯放射的光的分光分布的实例的特性图。

图6是对于图1、图2中所示的氧化膜16，表示因其形成膜厚使分光透射特性如何变化的特性图。

图7是将图6所示的特性图的部分波长域放大示出的特性图。

图8是表示图1、图2所示的光照射装置放射的光的分光分布的实例的特性图。

图9是表示在波长380nm至440nm的范围具有吸收区域的光引发剂的光吸收度的实例的特性图。

图10是将图1、图2所示的光照射装置放射的光的分光分布的实例与其它的光照射装置的放射光的分光分布进行比较所示的特性图。

图11是表示另一实施方式的光照射装置的结构的截面图。

图12对于又一实施方式中使用的氧化膜16A，表示因其形成膜厚使分光透射特性如何变化的特性图。

图13是表示又一实施方式的光照射装置放射的光的分光分布的实例的特性图。

(符号说明)