[发明专利]一种纳米级超材料微结构及其制备方法有效
| 申请号： | 201210050814.7 | 申请日： | 2012-02-29 |
| 公开（公告）号： | CN103288042A | 公开（公告）日： | 2013-09-11 |
| 发明（设计）人： | 刘若鹏;赵治亚;金曦;熊晓磊 | 申请（专利权）人： | 深圳光启创新技术有限公司 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00;B81B1/00 |
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| 地址： | 518034 广东省深圳市福田*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 纳米 材料 微结构 及其 制备 方法 | ||
1.一种纳米级超材料微结构的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：
a、将金属薄膜覆在涂有粘结剂的基板上，烘干并保持干燥；
b、在金属薄膜表面涂抹一层光刻胶；
c、将具有纳米级线宽图形的掩膜板对准光刻胶，用紫外线光对光刻胶进行曝光，然后去除未曝光的光刻胶；
d、再通过腐蚀液去掉微结构以外的金属薄膜，从而在基板上获得纳米级线宽的微结构。
2.根据权利要求1所述的纳米级超材料微结构的制备方法，其特征在于：所述的具有纳米级线宽图形的掩膜板的制备工艺为：
2.1、在石英玻璃上蒸镀一层镉金属膜；
2.2、在金属膜上涂抹一层光刻胶；
2.3、用聚焦离子束对光刻胶曝光，制备出预制的图形；
2.4、然后再在金属膜上涂抹一层有机玻璃；
2.5、最后在有机玻璃上蒸镀一层银，获得具有纳米级线宽图形的掩膜板。
3.根据权利要求2所述的纳米级超材料微结构的制备方法，其特征在于：所述的镉金属膜的厚度为10-100纳米。
4.根据权利要求2所述的纳米级超材料微结构的制备方法，其特征在于：所述的有机玻璃的厚度为10-80纳米。
5.根据权利要求2所述的纳米级超材料微结构的制备方法，其特征在于：所述的预制的图形为工字型或工字衍生型。
6.根据权利要求1所述的纳米级超材料微结构的制备方法，其特征在于：所述的紫外线光采用波长为300nm-400nm的紫外线光。
7.根据权利要求6所述的纳米级超材料微结构的制备方法，其特征在于：所述的紫外线光优选为波长为365nm的紫外线光。
8.根据权利要求1所述的纳米级超材料微结构的制备方法，其特征在于：所述的金属薄膜为金箔、铜箔、银箔或铝箔。
9.根据权利要求1所述的纳米级超材料微结构的制备方法，其特征在于：所述的基板为陶瓷基板。
10.根据权利要求1所述的纳米级超材料微结构的制备方法，其特征在于：所述的基板为有机树脂基板。
11.一种纳米级超材料微结构，其特征在于：包括权利要求1-10任意一项所述的方法制备的纳米级超材料微结构。
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