[发明专利]镀膜修正板无效
申请号: | 201210052213.X | 申请日: | 2012-03-02 |
公开(公告)号: | CN103290384A | 公开(公告)日: | 2013-09-11 |
发明(设计)人: | 裴绍凯 | 申请(专利权)人: | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/54 | 分类号: | C23C14/54;C23C14/24 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 镀膜 修正 | ||
技术领域
本发明涉及一种光学镀膜装置,尤其涉及一种镀膜修正板。
背景技术
目前,光学薄膜广泛应用于光学仪器,如传感器,半导体激光,干涉仪等很多领域。现在,光学薄膜制造通常是以物理蒸镀法(Physics vapor deposition,简称PVD)为主,该方法为将薄膜材料有固态转化为气态或离子态,气态惑离子态的材料由蒸发源穿越空间,抵达被镀基材表面后,在基材表面沉积而逐渐形成薄膜。
现有的光学镀膜通常于高真空环境下完成,镀膜设备通常包括一蒸镀源、一设置于蒸镀源上方用来承载被镀基材的镀膜伞架及蒸镀源和镀膜伞架之间的镀膜修正板。镀膜时,镀膜伞架以一定速度转动以使分布在镀膜伞架各处的被镀基材的膜厚均匀。 但受限于镀膜伞架形状固定,镀膜伞架各圈层的被镀基材相对蒸镀源的位置不同,接触的蒸发物的浓度有所不同,会导致镀膜伞架上各圈层被镀基材的膜厚不均匀,为保证镀膜伞架上每一圈层被镀基材上膜厚均匀,则需要使用修正板来调整镀膜伞架上每圈镀膜的均匀性,例如,若是镀膜伞架上最外圈层的被镀基材的镀膜偏厚,就会用铝箔纸将修正板对应于镀膜伞架上最外圈层被镀基材的部分多包一些,使蒸镀物被挡住的多一些,到达最外层被镀基材的蒸发物就会少一些,膜层就可以镀的薄一些。但是由于现有的修正板的形状是固定的,而用铝箔纸包裹修正板都是人工操作,由于每个人的手法经验不同,包裹出来的修正板的形状会不同,没有一共同的标准,因此常常需要花很多次来试镀,浪费时间且增加成本。
发明内容
有鉴于此,本发明提供一种通用性佳,形状可精确调整的修正板,在将修正板的形状调整后再用铝箔纸包裹。
一种镀膜修正板,其包括一转轴,多个横杆、多个调整机构及多对修正片。所述横杆相对于转轴对称地固定于转轴上,横杆上设有刻度。所述调整机构,包括一连杆,一旋转盘及一驱动杆,其中,连杆垂直从转轴和横杆交叉处穿过并且能够相对于转轴转动,连杆两端分别连接旋转盘和驱动杆。所述修正片设置在横杆两边并且能够在调整机构的驱动杆的推动下沿横杆向外滑动。
相较于现有技术,本发明的镀膜修正板,可通过改变修正片沿横杆伸展的距离来精确调整修正板的形状,之后再用铝箔纸包住修正板,从而保证了人工包裹的后的修正板形状保持一致,提高了生产效率,降低了不良率,节省了成本。
附图说明
图1为本发明一实施例镀膜修正板的正面及反面示意图。
图2为本发明一实施例镀膜修正板的调整机构示意图。
图3为本发明一实施例镀膜修正板调整后的形状示意图。
图4为本法明一实施例光学镀膜装置示意图。
主要元件符号说明
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司,未经鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210052213.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类