[发明专利]涂覆的基体及其制造方法

权利要求书

1.一种涂覆的基体，包括一个基体和一个涂层，该涂层包括至少一个由氧碳氮化钛或氧碳氮化钛铝组成的层，其中该层具有在约0.01至约0.09范围内的氧与钛原子百分比率、在约0至约0.1范围内的铝与钛原子百分比率，并且该涂层具有的以GPa计的硬度与以GPa计的杨氏模量之比为至少0.06。

2.如权利要求1所述的涂覆的基体，其中该涂层包括多个层。

3.如权利要求2所述的涂覆的基体，其中该多个层中的至少一个层包括一种选自下组的材料，该组由以下各项组成：氮化钛、碳氮化钛、氧化铝、氮化锆、以及碳氮化锆。

4.如权利要求2所述的涂覆的基体，其中该多个层中的至少一个层是一个粘附层。

5.如权利要求1所述的涂覆的基体，其中该涂层具有在从约1微米至约25微米范围内的厚度。

6.如权利要求1所述的涂覆的基体，其中该至少一个由氧碳氮化钛或氧碳氮化钛铝组成的层具有在从约1微米至约20微米范围内的厚度。

7.如权利要求1所述的涂覆的基体，其中该基体是一种切削镶片。

8.如权利要求1所述的涂覆的基体，其中该基体包括一种选自下组的材料，该组由以下各项组成：烧结碳化物、陶瓷、金属陶瓷、以及钢。

9.一种用于制造涂覆的基体的方法，包括以下步骤：

a)提供具有一个基体表面的一个基体；以及

b)在该基体表面上沉积一个涂层；

其中该沉积步骤包括在约750℃至约950℃范围内的一个基体温度下并且在具有的氢气与氮气之比为至少5的一种气氛中通过MT-CVD来沉积至少一个由氧碳氮化钛或氧碳氮化钛铝组成的层，并且该层具有在约0.01至约0.09范围内的氧与钛原子百分比率、以及在约0至约0.1范围内的铝与钛原子百分比率；

并且其中该涂层具有的以GPa计的硬度与以GPa计的杨氏模量之比为至少0.06。

10.如权利要求9所述的方法，其中该通过MT-CVD来沉积至少一个氧碳氮化钛或氧碳氮化钛铝层的步骤包括使用包括四氯化钛、一种碳源气体、以及一种氧源气体的气氛。

11.如权利要求10所述的方法，其中该碳源气体是乙腈。

12.如权利要求10所述的方法，其中该氧源气体是选自下组中的至少一项，该组由以下各项组成：一氧化碳、氧化亚氮、以及一氧化氮。

13.如权利要求10所述的方法，其中该气氛还包括三氯化铝。

14.如权利要求9所述的方法，其中该涂层具有在从约2微米至约25微米范围内的厚度。

15.如权利要求9所述的涂覆的基体，其中该至少一个由氧碳氮化钛或氧碳氮化钛铝组成的层具有在从约1微米至约20微米范围内的厚度。

16.如权利要求9所述的方法，其中该基体是一种切削镶片。

17.如权利要求9所述的方法，其中该基体包括一种选自下组的材料，该组由以下各项组成：烧结碳化物、陶瓷、金属陶瓷、以及钢。