[发明专利]对柔性衬底的扩散阻挡层修饰无效
| 申请号： | 201210054338.6 | 申请日： | 2012-03-05 |
| 公开（公告）号： | CN103290376A | 公开（公告）日： | 2013-09-11 |
| 发明（设计）人： | 孙玉娣;张建柱;彭博;马格林 | 申请（专利权）人： | 任丘市永基光电太阳能有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/16;H01L31/18 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 062550 河*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 柔性 衬底 扩散 阻挡 修饰 | ||
1.一种柔性CIGS薄膜太阳电池中，对柔性衬底添加铬阻挡层的修饰方法，是在柔性衬底上采用直流磁控溅射工艺沉积一层扩散阻挡层，其特征在于：
所述柔性衬底为不锈钢衬底；
所述阻挡层为铬层。
2.根据权利要求书1所述的对柔性衬底的扩散阻挡层修饰方法，其特征在于，不锈钢衬底的厚度为25μm。
3.根据权利要求书1所述的对柔性衬底的扩散阻挡层修饰方法，其特征在于，不锈钢衬底需经过超声清洗，高纯氮气吹干。
4.根据权利要求书1所述的对柔性衬底的扩散阻挡层修饰方法，其特征在于，所述方法采用的设备是卧式对向磁控溅射靶设备。
5.根据权利要求书1所述的对柔性衬底的扩散阻挡层修饰方法，其特征在于，所述直流磁控溅射法选用的铬靶材纯度为99.5％以上，靶材尺寸为。
6.根据权利要求书1所述的对柔性衬底的扩散阻挡层修饰方法，其特征在于，所述直流磁控溅射法中的工作气体为纯氩气，气体流量为30ml/min，工作气压为2.0Pa，本底真空为3.0×10-3Pa。
7.根据权利要求书1所述的对柔性衬底的扩散阻挡层修饰方法，其特征在于，所述直流磁控溅射法中基片与靶材的距离为100mm。
8.根据权利要求书1所述的对柔性衬底的扩散阻挡层修饰方法，其特征在于，所述直流磁控溅射法中基底温度为200℃，溅射时间为5-20min。
9.根据权利要求书1所述的对柔性衬底的扩散阻挡层修饰方法，其特征在于，所述直流磁控溅射法中溅射电流为0.10A，0.25A，0.40A，溅射电压为0.26kV，0.52kV。
10.根据权利要求书1所述的对柔性衬底的扩散阻挡层修饰方法，其特征在于，所述扩散阻挡层厚度为1-2μm。
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