[发明专利]具有枢转歧管的表面清洁设备

权利要求书

1.一种表面清洁设备，包括：

底座壳体，具有第一和第二相对侧；

手柄，枢转地附接至所述底座壳体，其中，所述手柄相对于所述底座壳体围绕第一轴线可旋转；

流体输送系统，由所述底座壳体和所述手柄中的至少一个承载，所述流体输送系统用于储存清洁流体并通过包括至少一个释放口的歧管选择性地将清洁流体输送至待清洁表面；以及

联轴器接头，用于将所述底座壳体枢转地附接至所述手柄且限定第一轴线，使得所述手柄能够相对于所述底座壳体围绕所述第一轴线在第一使用位置与第二使用位置之间前后移动，在所述第一使用位置中，所述第一相对侧面向待清洁表面，在所述第二使用位置中，所述第二相对侧面向待清洁表面；

其中，所述歧管被构造为相对于所述底座壳体而与所述手柄一致地枢转，使得在所述第一和第二使用位置中所述至少一个释放口通常都朝着待清洁表面定向。

2.根据权利要求1所述的表面清洁设备，进一步包括与所述底座壳体相连的偏压机构，其中，所述偏压机构相对于所述手柄对所述底座壳体和所述联轴器接头中的至少一个提供引导力，以当将所述底座壳体提离所述待清洁表面时，引导所述底座壳体离开所述第一和第二使用位置。

3.根据权利要求2所述的表面清洁设备，其中，所述偏压机构被构造为，当将所述底座壳体提离所述待清洁表面时将所述底座壳体推入中间位置，其中，所述中间位置被限定在所述第一使用位置与所述第二使用位置之间。

4.根据权利要求2所述的表面清洁设备，其中，所述偏压机构包括至少一个弹簧，所述弹簧操作地安装至所述底座壳体、所述联轴器接头和所述手柄中的至少一个，以相对于所述手柄偏压所述底座壳体，使其离开所述第一和第二使用位置。

5.根据权利要求4所述的表面清洁设备，其中，所述偏压机构包括第一弹簧和第二弹簧，所述第一弹簧作用于所述底座壳体和所述联轴器接头上以偏压所述底座壳体使其离开所述第一使用位置，所述第二弹簧作用于所述底座壳体和所述联轴器接头上以偏压所述底座壳体使其离开所述第二使用位置。

6.根据权利要求5所述的表面清洁设备，其中，所述第一和第二弹簧是扭簧，其具有与所述底座壳体和所述联轴器接头中的一个接合的盘绕部分，以及从所述盘绕部分延伸且选择性地偏压抵靠在所述底座壳体的一部分上的自由端。

7.根据权利要求2所述的表面清洁设备，其中，所述偏压机构包括：设置于一通道内的第一弹簧和第二弹簧，所述通道设于所述底座壳体上并围绕所述联轴器接头；以及设置于所述通道内的所述底座和所述联轴器接头中的至少一个上的隔板，其中，当所述底座壳体处于所述第一使用位置中时，所述第一弹簧抵接所述隔板且将所述底座壳体推离所述第一使用位置，并且，当所述底座壳体处于所述第二使用位置中时，所述第二弹簧抵接所述隔板且将所述底座壳体推离所述第二使用位置。

8.根据权利要求2所述的表面清洁设备，其中，所述偏压机构包括第一板簧和第二板簧，并且所述底座壳体和所述联轴器接头中的至少一个包括凸轮，其中，所述凸轮被构造为，当所述底座壳体处于所述第一或第二使用位置中时促使所述第一和第二板簧分离。

9.根据权利要求2所述的表面清洁设备，其中，所述偏压机构包括至少一个弹簧，相对于所述蒸汽歧管偏压所述底座壳体。

10.根据权利要求2所述的表面清洁设备，其中，所述偏压机构包括所述联轴器接头相对于所述底座壳体的重心的偏移位置，以使得所述第一轴线不通过所述底座壳体的重心。

11.根据权利要求10所述的表面清洁设备，其中，所述偏压机构包括设置于所述底座壳体的边缘上的配重，由此，当将所述底座壳体提离所述待清洁表面时，所述底座壳体将由于重力作用而离开所述第一和第二使用位置。

12.根据权利要求1所述的表面清洁设备，其中，所述流体输送系统包括与所述歧管接合的蒸汽发生器。

13.根据权利要求12所述的表面清洁设备，其中，所述蒸汽发生器被安装至所述手柄，且所述歧管被设置在所述底座壳体内。

14.根据权利要求1所述的表面清洁设备，其中，所述至少一个释放口包括多个释放口以用于将清洁流体输送至所述待清洁表面且所述底座壳体围绕所述多个释放口可旋转。