[发明专利]LM-T脱硅摆动流嘴浇注料有效
申请号: | 201210055919.1 | 申请日: | 2012-03-06 |
公开(公告)号: | CN102584299A | 公开(公告)日: | 2012-07-18 |
发明(设计)人: | 佘春霞 | 申请(专利权)人: | 长兴煤山新型炉料有限公司 |
主分类号: | C04B35/66 | 分类号: | C04B35/66 |
代理公司: | 杭州华鼎知识产权代理事务所(普通合伙) 33217 | 代理人: | 胡根良 |
地址: | 313117 *** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | lm 摆动 浇注 | ||
1.LM-T脱硅摆动流嘴浇注料,其特征在于:由电熔致密刚玉、棕刚玉、板状刚玉、活性氧化铝粉、镁砂、六偏磷酸钠、防爆剂和硅粉组成。
2.根据权利要求1所述的LM-T脱硅摆动流嘴浇注料,其特征在于:所述浇注料中部分组分的颗粒度为:电熔致密刚玉5~8mm;棕刚玉3~5mm;板状刚玉1~3mm;棕刚玉0~1mm;活性氧化铝粉<3um;其中镁砂由0~1mm的镁砂和80um的镁砂组成。
3.根据权利要求2所述的LM-T脱硅摆动流嘴浇注料,其特征在于:所述浇注料中各组分的重量百分比为:电熔致密刚玉5~8mm:21%~24%;棕刚玉3~5mm:16%~19%;板状刚玉1~3mm:18%~22%;棕刚玉0~1mm:15%~18%;活性氧化铝粉<3um:6%~10%;镁砂0~1mm:2%~5%;镁砂80um:1%~3%;六偏酸钠:0.4%~1%;防爆剂:1%~2%,硅粉:0.5%~2%。
4.根据权利要求3所述的LM-T脱硅摆动流嘴浇注料,其特征在于:所述防爆剂为聚丙烯纤维。
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